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真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直

辉光放电的主要应用是利用其发光效应（如霓虹灯、日光灯）以及正常辉光放电的稳压效应（如氖稳压管）。 利用辉光放电的正柱区产生激光的特性，制做氦氖激光器。低压气体放电的一种类型，在发射光谱分析中用作气体分析和难激发元素分析的激发光源。在玻璃管两

辉光器，也就是辉光放电管，是一种利用气体辉光放电原理而工作的离子管，在电子电路中有指示、稳压等作用。根据其发光效应，可产出霓虹灯、日光灯以及一些指示性电路元件；由其正常辉光放电的稳压效应，可产出氖稳压管等元件以在电路中获得更多的稳定电压。辉

硅片腐蚀利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚