材科基说明材料组织的明场像和暗场像有何区别,并从成像原理角度说明

材科基说明材料组织的明场像和暗场像有何区别,并从成像原理角度说明,第1张

明场像与暗场像都有什么区别呢

一个是透射束成像,一个是衍射束成像

透射电镜图像分为试样的显微像和衍射花样,这两种像分别为不同电子成像,前者是透射电子成像,后者为散射电子成像。

透射电镜中,不仅可以选择特定的像区进行电子衍射(选区电子衍射),还可以选择成像电子束。(选择衍射成像)

明场像(BF):选用直射电子形成的像(透射束),像清晰。

暗场像(DF):选用散射电子形成的像(衍射束),像有畸变、分辨率低。

成像电子的选择是通过在物镜的背焦面上插入物镜光阑来实现的。

中心暗场像(CDF):入射电子束对试样倾斜照明,得到的暗场像。像不畸变、分辨率高。

暗场成像条件下,成像电子束偏离透射电镜的光轴,造成较大的像差,成像质量差,为获得高质量暗场像,采取中心暗场成像。即入射电子束反向倾斜一个相应的散射角度,使散射电子沿光轴传播。

所谓明场,暗场成像只是对低倍观察时说的。

一般来说,观察形貌我们都比较喜欢用明场像,因为成像衬度好(尤其是加了合适的光阑),形变小。其主要表现为厚度衬度,对厚度敏感。

而观察缺陷如位错,孪晶的时候喜欢用暗场像,因为暗场像是来自于选定的某个衍射束,对应于晶体特定的晶面。在缺陷地方,电子衍射的方向和完整的地方不一样,从而使得缺陷地方能够在暗场像上清楚的显示出来。而明场像因为是多个衍射束的成像,对缺陷不敏感,虽然有时候也能反应出缺陷,但是及其模糊。其主要表现为衍射衬度。也就是对衍射面敏感。

比如说一个孪晶材料,对于明场,孪晶界面很淡,但是选择合适的衍射点做暗场像可以很清楚的看见孪晶界面。而且选择其中一个晶体特有的衍射点,做暗场可以发现只有这一个晶体出现在图像上,而另外一个晶体看不见。

对于暗场一个重要的用途是观察层错,比如说立方晶系里面的111方向的层错用明场像无法看出来。因为有缺陷和无缺陷的地方厚度一样。但是暗场像在特定的方向观察时,可以观察到三角形或者蝴蝶状甚至金字塔装的衬度明暗条纹。这个时候用到的一个TEM技术叫做双束。

明暗场成像是透射电镜最基本也是最常用的技术方法,其操作比较容易,这里仅对暗场像操作及其要点简单介绍如下:

(1) 在明场像下寻找感兴趣的视场。

(2) 插入选区光栏围住所选择的视场。

(3) 按“衍射”按钮转入衍射操作方式,取出物镜光栏,此时荧光屏上将显示选区域内晶体产生的衍射花样。为获得较强的衍射束,可适当的倾转样品调整其取向。

(4) 倾斜入射电子束方向,使用于成像的衍射束与电镜光铀平行,此时该衍射斑点应位于荧光屏中心。

(5) 插入物镜光栏套住荧光屏中心的衍射斑点,转入成像操作方式,取出选区光栏。此时,荧光屏上显示的图像即为该衍射束形成的暗场像。(衍射使用选区光阑,成像使用物镜光阑)

通过倾斜入射束方向,把成像的衍射束调整至光轴方向,这样可以减小球差,获得高质量的图像。用这种方式形成的暗场像称为中心暗场像。在倾斜入射束时,应将透射斑移至原强衍射斑(hkl)位置,而(hkl)弱衍射斑相应地移至荧光屏中心,而变成强衍射斑点,这一点应该在操作时引起注意。

利用暗场像观测析出相的尺寸、空间形态及其在基体中的分布,是衍衬分析工作中一种常用的实验技术。

利用层错明暗场像外侧条纹的衬度,可以判定层错的性质。


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