关键是聚焦,高倍聚焦,低倍成像。再就是调节对比度亮度得到一幅清晰的图像。 如果比较了解电镜的话,还要调节像散,对中等等之类的。
SEM想清楚这个要自己多试条件,不同的电压、扫描速度、工作距离都是会影响图片清晰度的,当然条件确认的情况下,就是要看你的技术咯,电子束对中,像散调节,wobble,最后就是focus清晰啦。
制样,成功制备出所要观察的位置,样品如果不导电,可能需要镀金境电,环镜处在无振动干扰和无磁场干扰的环境下,设备,电镜电子枪仍在合理的使用时间内,拍摄,找到拍摄位置,选择合适距离,选择合适探头,对中,调像散,聚焦,反复操作至最清晰。
扫描电镜作为一种基础显微成像工具,因具有超高的放大能力,从而被高校、科研院所、材料研发和质量分析部门广泛用于。
SEM是扫描电子显微镜
,主要用于电子显微成像,接配电子显微分析附件,可做相应的特征分析,
最常用的是聚焦
电子束
和样品相互作用区发射出的元素特征
X-射线
,可用EDS或者WDS进行探测分析,获得微区(作用区)元素成分信息,而EDS或者WDS这类电子显微分析附件却来源于EPMA。
SEM就是一个电子显微分析平台,分析附件可根据用户需要来选配,有需要这个的,有需要那个的,因此
扫描电镜
结构种类具有多样性,从tiny、small、little
style,to
middle、large、huge
style.
就EDS或WDS分析技术来讲,在SEM上使用,基本上使用无
标样
分析,获得很粗糙的
半定量
结果。
而EPMA在SEM商品化10年前,就已经开始实用了,其主要目的,就是要精确获得微米尺度晶粒或颗粒的成分信息.
主要分析手段是WDS,一般配置4个WDS,基于此,EPMA结构比较单一,各品牌型号结构差距不大。EMPA追求电子显微分析结果精准,因此
电子光学
设计不追求高分辨,电子显微分析对汇聚束的要求相匹配即可。
早期EPMA成像手段主要采用同轴
光学显微镜
,然后移动样品台或移动汇聚电子束,找到感兴趣区,当前依然保留同轴光镜,用来校准WD。EMPA对电子光学系统工作条件的稳定性要求超过SEM很多很多,控制系统增加了一些
负反馈
机制,确保分析条件和标样分析保持很小的误差。
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