投射电镜和扫描电镜的异同

透射电镜使用的信号是forward scattering electrons，而扫描电镜使用的是backward scattering electrons。前者分辨率较后者高，如2010能够达到2.3nm左右，可得到高分辨率图像，观察位错孪晶等，而后者一般用于观察样品表面形貌，由于扫描电镜景深较大，所以图像立体感强。此外，投射电镜很大一部分时间都花在样品的制备上了，做到几十个微米薄；而相比较扫描电镜样品制备较简单。

EDAX公司能谱与EBSD一体化系统——Pegasus

主要指标和特点

设备用途

用在扫描电镜(SEM)上,对材料的微区成分及元素的分布状况进行定性和定量分析.通过对背散射电子衍射花样(EBSP)的测量和标定,分析研究晶体取向,取向分布,晶界特征以及微观织构等,并能进行鉴定物相.一体化的能谱和EBSD系统,同步测量EDS和EBSD数据,通过化学预过滤的相分析,提高指标化的速度和准确度.

GENESIS能谱部分

探头类型:液氮制冷Si(Li)探测器,晶体活区面积10mm2

不用时勿需加液氮,并且内置温度传感器,断液氮和重新加液氮无须运行特殊的保护程序

能量分辨率(Mn-Ka,@2,500CPS):优于132e(标准)

C-K分辨率优于60eV,F-K 优于65eV

可分析元素范围:Be4~U92

输出最大计数率:大于100,000CPS

可处理最大计数率:大于500,000CPS

计数率增加到10,000cps分辨率下降小于1eV10kcps以上,每增加10kcps分辨率下降99%成功率测试条件为金属Ni,电镜束流>2nA

注:相机扫描速度(帧/秒)肯定大于指标化速度(点/秒),不是重要的EBSD技术指标

高速度Hikari 数字CCD相机

1394火线(FireWire)接口,16位图像处理,12位图像输出

相机分辨率高达640 x 480 像素

指标化速度:≥200pps,并保证>99%成功率测试条件为金属Ni,电镜束流>2nA

EBSD 数据采集系统

能对所有对称性(从三斜到立方的所有7个晶系)的晶体材料的EBSP进行自动标定

与能谱一体化,能够同步采集EBSD和能谱数据,进行化学预过滤的指标化和相鉴定Chi-Scan (EDAX专利技术)

即可调用本公司认证的专用EBSD晶体学数据库,人工建立数据库,也可调用国际通用的晶体学数据库(如NIST,ICCD等).

随系统附带的EBSD专用晶体学数据库包含220以上个相结构(竞争对手只有50个)

一体化的材料文件编辑器,不仅能够与EBSD专用数据库连接,并可与ICDD等通用数据库链接

采用三元指标化(Triplet Indexing)和CI因子评级等先进技术(EDAX 专利技术),提高对变形材料和晶界附近衍射花样的指标化能力,提高EBSD的空间分辨率

具有Hough, HoughPlus及Progressive等多种自动标定方法,以及灵活的参数

系统能够对同一面扫描标定并鉴别多相组织,够标定所有的晶系和空间点阵结构

能够在数据采集期间进行自动漂移矫正

能够与能谱仪形成一体化并在花样标定与相鉴定中利用能谱数据.

EBSD分析软件

采用树状工程管理界面,可进行多重数据组的同时显示和处理,简单直接的数据比较,使繁杂的数据管理有条不紊.所有OIM分析功能全部集成在一个OIM Analysis软件中.

从EBSD扫描的数据(Scan Dataset),不仅可以得到与相(Phase),取向(Orientation)和化学成分(EDS)有关的面分布和图表,织构等,并在OIM系统数据库中包含了大部分材料的物理特性信息,可以得到材料的弹性刚量(Elastic Stiffness),Taylor因子,Schmid因子等

内含5个通用晶体学工具,包括对称取向(Symmetric Orientation),对称取向差(Symmetric Orientation),对称方向(Symmetric Direction),取向差计算器(Misorentation Calculator)和晶体旋转器(Crystal Rotator)等,方便对晶体学和对称性的理解和计算.

在涉及取向(Orientation)的所有场合,用户可以选择熟悉的任何表示方法,如欧拉空间的Bunge,Roe和Kocks表示,或轴/角对(Axis/angle)表示.

数据的分区:可以按照给定的条件或条件的逻辑组合对扫描数据进行分区,然后对分区的数据进行分析和处理.

功能强大的分析和显示工具:

面分布:20多种灰度(Gray Scale)图,30多种彩色(Color coded)图,以及它们的组合,并可以分析和叠加旋转晶界,孪晶(Twin)界,重位点阵(CSL)晶界等.

分布图表(Charts):30多种,包括花样质量,反极图,晶粒尺寸,取向和取向差,织构组成等.

离散绘图(Discrete plots):可以用6种表象中的任何一种绘制离散图,包括极图,反极图,4种欧拉空间.

功能强大的织构分析:可以用极图,反极图,ODF等来分析计算给定方向的织构,并绘制出黑白或彩色织构图.

常用的面分布(maps),绘图(plots),图表(charts)等,一键即得,方便地进行扫描数据的旋转和去伪处理.

交互地表征:可以将Maps, Plots和Charts中的共性数据或特征提出,进行单独作图,并与原出处对应

技术支持:EDAX连续5年在聘请专家在中国举办OIM应用培训班,并坚持每年举办该培训和讲座,为EDAX用于提供交流平台和技术支持.

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