烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ~20 nm 的金,对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀 20min 后进行镀金,然后放入 SEM样品室内进行观察,电子枪电压采用 20kV,电子束流为 150 mA,并用照相方式记录样品的二次电子图像 ( 或称之为形貌像) 。
最低含量为0.X%。因为我们进行测量的物质都是定量的,最低含量为0.X%。EDS 点分析是将电子束固定于样品中某一点上,进行定性或者定量的分析。每一种元素在图中会出现一种峰,由此可以看出样品中所含有的元素,同时展示了相对质量分数和相对原子分数及误差,误差越大表示元素的相对含量可信度越低。
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