谁知道EBL 跟TPM是什么意思

谁知道EBL 跟TPM是什么意思,第1张

EBL

Experiment-based learning

基于实验的教学方法。 电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL,又称电子束暴光系统)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity Lithography Systems公司是最早研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置(Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统,简称NPGS,又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点,且高能电子的波长短(<1 nm),可避免绕射效应的困扰,是实验室制作微小纳米电子元件最佳的选择。相对于购买昂贵的专用电子束曝光机台,以既有的SEM等为基础,外加电子束控制系统,透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描,以进行直接刻画图案,在造价方面可大幅节省,且兼具原SEM 的观测功能,在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点,在北美研究机构中,JC Nabity的NPGS是最热销的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统,而且它的应用在世界各地越来越广泛。(NPGS最突出优点是技术先进性无与伦比且性价比高)

TPM

TPM安全芯片TPM实际上是一个含有密码运算部件和存储部件的小芯片上的系统,由CPU、存储器、I/O、密码运算器、随机数产生器和嵌入式操作系统等部件组成。


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