SEM 对于不同的样品 如何选择最优电压电流？

具体选择的电压需要根据具体样品来选择的，一般来讲金属和半导体可能中压10KV和5KV都可以，高分子最好选择5KV的低压，这样可以得到更好的图片效果。

以为高分子的导电性能很差，且容易被电压击穿，所以要选择低电压和快速照相模式的组合。

而金属和半导体，导电性能都还好，可以根据调试的效果自行选择电压来操作。

并没有硬性的规定金属，半导体，高分子具体要多少电压。这些都是需要根据具体的图像质量来不断调整的

FIB带有SEM功能；FIB另外的功能就是微纳加工。

SEM是电子束成像原理.

FIB中带有电子束成像,也可以离子束成像（一般不用,对样品表面形貌损伤太大）.

如果您只观察形貌的话,用SEM即可,FIB的电子束成像方面和SEM都一模一样.

楼主如果基体必须是不导电玻璃，如不能喷金，可以喷碳，这可以消除荷电问题，不妨碍形貌观察。如果不能喷涂导电膜，就得升级您使用的仪器：使用具有更高的低电压性能扫描电镜，玻璃水平放置，低电压在1kv-2kv之间找到合适的消除荷电的观察条件，或者玻璃片大角度倾斜消除荷电，提高加速电压获得更好的分辨率；可以选择低真空观察模式。

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