用SEM测超薄薄膜厚度,如何制样才能保证导电性足够好?

用SEM测超薄薄膜厚度,如何制样才能保证导电性足够好?,第1张

想准确测定厚度还是很麻烦的,关键就在于制样,关于镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的,标准名称我不太记得了,改天给你发过来也行(如果需要),大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍,然后把材料固化在树脂中,再做截面,或者抛光,然后再测定,关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题,喷金或者喷碳就可以解决.

随着科技的进步和精密仪器的应用,薄膜厚度的测量方法有很多,按照测量的方式分可以分为两类:直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器,通过接触(或光接触)直接感应出薄膜的厚度,常见的直接法测量有:螺旋测微法、精密轮廓扫描法(台阶法)、扫描电子显微法(SEM);间接测量指根据一定对应的物理关系,将相关的物理量经过计算转化为薄膜的厚度,从而达到测量薄膜厚度的目的。常见的间接法测量有:称量法、电容法、电阻法、等厚干涉法、变角干涉法、椭圆偏振法。按照测量的原理可分为三类:称量法、电学法、光学法。常见的称量法有:天平法、石英法、原子数测定法;常见的电学法有:电阻法、电容法、涡流法;常见的光学方法有:等厚干涉法、变角干涉法、光吸收法、椭圆偏振法。


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