一般常用微观形貌观测模式。电流大小是由电流密度和镀件面积决定的,电流密度是由各电镀工艺决定的。那么,知道了这几个条件怎样计算镀层厚度或者时间呢?首先要了解电化当量的概念,所谓电化当量,就是单位电流和单位时间内能够镀出的金属的质量(重量),电镀常用的电化当量单位是克/安培小时,不同的金属有不同的电化当量,可以查相关资料得到,也可以自己计算出来,计算方法是金属的克当量(就是金属的原子量除以它的价数)除以26.8。
比如,镍的原子量是58.69,价数是2,它的克当量就是58.69/2=29.35,它的电化当量就是29.35/26.8=1.095(克/安培小时)。怎样由电化当量计算镀层厚度呢?举个例子,比如镀镍,已知电化当量是1.095克/安培小时,假定给的电流密度是3A/平方分米,那么1平方分米面积,镀1小时,就是3安培小时,就会镀出1.095乘以3,等于3.225克镍,这么多的镍分布在1平方分米的面积上,镍的密度(比重)是8.9,不难算出镀层厚度是3.6丝,考虑到电流效率不是100%,镀镍电流效率一般为95%,修正后镀层厚度就是3.6乘以0.95=3.4丝。
去掉盐,也就是用去离子水
多洗
,不过需要
高速离心机
,否则小粒子下不来。另外,用TEM测试的话,需要做多浓度的实验,可以用毛细管点不同浓度(相差可以10倍)的溶液观察一下,如果没有合适的,可以继续调节,直到粒子均匀分散在碳膜上。其次,用场发射SEM也可以看,但同样要洗,不过可以不用TEM滴样那么麻烦,可以滴加一滴,倾斜样品台,让
液滴
流动,这样就能形成一定的浓度梯度,看起来选择合适区域拍照即可。
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