采用低真空模式或环境扫描模式(这两种模式一般都是要通入
水蒸气,保持低真空度)。只不过清晰度会差一些,放大倍率倒是不会降低太多,一般1万或3万左右的放大倍数都没问题,主要是与喷金比较,会有些模糊,另外
样品非常容易被电子束打的变形,留下烙印。想准确测定厚度还是很麻烦的,关键就在于制样,关于
镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的,标准名称我不太记得了,改天给你发过来也行(如果需要),大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍,然后把材料固化在树脂中,再做截面,或者抛光,然后再测定,关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题,喷金或者喷碳就可以解决.1、高真空环境是分子流,湿的样品不断释放水蒸气,使高真空情况下,真空度很难上升,往往达不到比较优越的条件。
2、水蒸气和2000多度高温的钨丝反应,会加速电子枪灯丝挥发,极大降低灯丝寿命。
3、对电子束的散射,会造成信号损失
4、污染样品
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