SEM 实验

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀 20min 后进行镀金，然后放入 SEM样品室内进行观察，电子枪电压采用 20kV，电子束流为 150 mA，并用照相方式记录样品的二次电子图像 ( 或称之为形貌像) 。

具体看看你的样品有什么特征了，要能很好的分散在溶剂中，如果太黏，制样的效果不好；还有就是如果忖度太低，需要染色，这样效果要好点。制样：一般附在铜网上，制成液体，滴在铜网上，干燥就行了

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