检测单晶硅片的破损程度,并进行分级:
破损小于30mm,能够切成6英寸Wafer;
破为两片,无法使用;
没有破损;
硅片尺寸156*156mm;
检测速度要求:1.5秒/片;
动作流程:硅片运动到检测位置后,相机快速拍照,然后进行处理,在这个过程中设备不停;
硅片运动速度:约150mm/s;
检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜。扫描电镜SEM是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。测sem时的硅片的作用检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜,硅片是生产集成电路、分立器件、传感器等半导体产品的关键材料,是半导体产业链基础性的一环。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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