贝叶斯sem间接效应怎么看

贝叶斯sem间接效应看法

模型是一个简单中介模型，假设是A对B有显著正向影响，做完路径分析之后，直接效应不显著，间接效应和总效应显著，那在报告结果的时候，是说直接效应不显著，所以假设不成立...

如图，我的模型是一个简单中介模型，假设是A对B有显著正向影响，做完路径分析之后，直接效应不显著，间接效应和总效应显著，那在报告结果的时候，是说直接效应不显著，所以假设不成立，还是说总效应显著，假设成立？

Amos有这个功能的，一般采用Bootstrap来处理。如果涉及多重中介，则需要使用贝叶斯语法自定义公式。

扫描电子显微镜

，主要用于电子显微成像，接配电子显微分析附件，可做相应的特征分析，

最常用的是聚焦

电子束

和样品相互作用区发射出的元素特征

X-射线

，可用EDS或者WDS进行探测分析，获得微区（作用区）元素成分信息，而EDS或者WDS这类电子显微分析附件却来源于EPMA。

SEM就是一个电子显微分析平台，分析附件可根据用户需要来选配，有需要这个的，有需要那个的，因此

扫描电镜

结构种类具有多样性，从tiny、small、little

style，to

middle、large、huge

style.

就EDS或WDS分析技术来讲，在SEM上使用，基本上使用无

标样

分析，获得很粗糙的

半定量

结果。

而EPMA在SEM商品化10年前，就已经开始实用了，其主要目的，就是要精确获得微米尺度晶粒或颗粒的成分信息.

主要分析手段是WDS，一般配置4个WDS，基于此，EPMA结构比较单一，各品牌型号结构差距不大。EMPA追求电子显微分析结果精准，因此

电子光学

设计不追求高分辨，电子显微分析对汇聚束的要求相匹配即可。

早期EPMA成像手段主要采用同轴

光学显微镜

，然后移动样品台或移动汇聚电子束，找到感兴趣区，当前依然保留同轴光镜，用来校准WD。EMPA对电子光学系统工作条件的稳定性要求超过SEM很多很多，控制系统增加了一些

负反馈

机制，确保分析条件和标样分析保持很小的误差。