以化学气相沉积法(CVD)为例:所谓CVD法,指的是反应物质于气态条件下产生化学反应,进而在加热固态基体表生成固态物质,从而实现固体材料的制成的工艺技术】。
目前,以CVD法进行石墨烯制备时通过将碳氢化合物等含碳气体通入以镍为基片、管状的简易沉积炉中,通过高温将含碳气体分解为碳原子使其沉积于镍的表面,进而形成石墨烯,再通过轻微化学刻蚀来使镍片与石墨烯薄膜分离,从而获得石墨烯薄膜。该薄膜处于透光率为80%的状态下时其导电率便高达1.1×106S/m。通过CVD法可制备出大面积高质量石墨烯,但单晶镍价格则过于昂贵,该方法可满足高质量、规模化石墨烯的制备要求,但工艺复杂,成本高,使得该方法的广泛应用受到限制。
通过物理或化学修饰方法能够抑制石墨烯的团聚已经被证实,使溶剂分子或表面活性剂分子吸附在石墨烯表面,利用经典斥力和分子间的作用力实现单层石墨烯的分散将石墨烯均匀分散在有机溶剂或表面活性剂的水溶液中。还可以采用一些表面改性和其他的方法来提高石墨烯的分散性,但在生成复合材料时引入的杂质是否影响复合材料性能还有待研究欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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