2、其次先上低倍钨丝试试,磁场比较低,没有晃动或者照片异常等等的话再去上场发射。
3、最后不可用磁铁直接靠近样品进行测试即可。
检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜。扫描电镜SEM是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。测sem时的硅片的作用检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜,硅片是生产集成电路、分立器件、传感器等半导体产品的关键材料,是半导体产业链基础性的一环。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
2、其次先上低倍钨丝试试,磁场比较低,没有晃动或者照片异常等等的话再去上场发射。
3、最后不可用磁铁直接靠近样品进行测试即可。
检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜。扫描电镜SEM是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。测sem时的硅片的作用检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜,硅片是生产集成电路、分立器件、传感器等半导体产品的关键材料,是半导体产业链基础性的一环。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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