硅片一般分正面和背面,正面印正银,背面印背银和背铝,烘干烧结后可以使用并测试。光伏用的硅片表面不能有线痕,这种工艺在切割时就定型,用途太阳能发电。而半导体硅片在切割时,硅片两面都有线痕,经抛光研磨后成晶圆,再上光刻胶。
很多纳米管、线等都是在类似的基体上生长,然后直接SEM观察。换句话说,只有纳米材料才会考虑用抛光硅片做样品载台。微米亚微米级别的,浪费,直接双面导电胶带粘即可。抛光是研磨后进一步平整漆面,除去研磨残余条纹,抛光剂使漆面光泽度自然呈现。抛光有很多种,有机械抛光、化学抛光、电解抛光、超声波抛光、流体抛光、磁研磨抛光。
暴露的晶面是由于载玻片物体的不同所产生的不同晶面。晶面有条纹与格子,这两种晶面会出现哪一种要看电子入射方向晶体面的夹角,如果夹角不合适可能只出现一种晶面的衍射。
简单的一维棒状和管状,纳米线之类的通过TEM就能确定复杂一些的,通过SEM观察其形貌画出其几何模型再通过TEM表征,确定可能的晶面计算晶面间二面角,确认是否和SEM比TEM观测到的图像及几何模型吻合,这样就能推出各个面的晶面指数。
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