SEM和EPMA实验可以直接得到哪些信息?

SEM是

扫描电子显微镜

，主要用于电子显微成像，接配电子显微分析附件，可做相应的特征分析，

最常用的是聚焦

电子束

和样品相互作用区发射出的元素特征

X-射线

，可用EDS或者WDS进行探测分析，获得微区（作用区）元素成分信息，而EDS或者WDS这类电子显微分析附件却来源于EPMA。

SEM就是一个电子显微分析平台，分析附件可根据用户需要来选配，有需要这个的，有需要那个的，因此

扫描电镜

结构种类具有多样性，从tiny、small、little

style，to

middle、large、huge

style.

就EDS或WDS分析技术来讲，在SEM上使用，基本上使用无

标样

分析，获得很粗糙的

半定量

结果。

而EPMA在SEM商品化10年前，就已经开始实用了，其主要目的，就是要精确获得微米尺度晶粒或颗粒的成分信息.

主要分析手段是WDS，一般配置4个WDS，基于此，EPMA结构比较单一，各品牌型号结构差距不大。EMPA追求电子显微分析结果精准，因此

电子光学

设计不追求高分辨，电子显微分析对汇聚束的要求相匹配即可。

早期EPMA成像手段主要采用同轴

光学显微镜

，然后移动样品台或移动汇聚电子束，找到感兴趣区，当前依然保留同轴光镜，用来校准WD。EMPA对电子光学系统工作条件的稳定性要求超过SEM很多很多，控制系统增加了一些

负反馈

机制，确保分析条件和标样分析保持很小的误差。

你可以搜索一下残余应力测量方法，X射线法、磁性法和超声法能无损测定残余应力；XRD衍射是测定物相的，（比如分辨氧化铝是阿尔法相，贝塔相还是伽马相），一般测量精度较差，大于5%以上可以分辨，也可以进行粗略的半定量分析；

透射电镜TEM观察的样品是薄样品（厚度约200um），有成像模式和衍射模式两种工作方式。可配备EDS和EELS（电子能量损失谱），用于分析微区形貌、成分、晶体结构、晶体缺陷等；

扫描电镜和电子探针一般做形貌分析，分背散射和二次电子两种模式，背散射可以根据致密材料的明暗程度分辨不同的相，二次电子景深较高，成像较清晰，可以做粉体、多孔材料和致密材料的形貌分析；电子探针即EPMA(电子探针显微分析)，最初的目的是以电子束为探测源来分析样品中微区的化学成分，一般配备波谱仪。而扫描电镜SEM，其最初目的是为了观察样品表面形貌，一般配备能谱仪。现在，电子探针上也可配备能谱仪，扫描电镜上也可配备波谱仪，EPMA和SEM并没有本质上的区别；

能谱仪和SEM，EPMA配备在一起，用于选定显微区域的成分分析。

红外光谱分析可用于研究分子的结构和化学键，也可以作为表征和鉴别化学物种的方法，有机领域用的多；

拉曼光谱的原理是拉曼散射效应，对与入射光频率不同的散射光谱进行分析以得到分子振动、转动方面信息，从而可以鉴别物质，分析物质的性质。

具体的请查阅相关资料

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