ocd光学线宽测量和cd-sem的区别

ocd光学线宽测量和cd-sem的区别,第1张

SEM作为显微镜,可以放大微观物体形态,一般允许误差在放大倍数±5%。在相同工作条件下,放大倍数一般不会漂移,精度可靠。但随着温湿度变化,随着电磁环境变化,可能会有漂移。因为SEM放大和光学显微镜放大完全不同,完全靠扫描线圈和电器元件控制,电器元件的老化,可能会引起放大倍数漂移,因此过两年需要校准放大倍数。另外SEM图像尺寸测量精度问题,这个情况和方舟子质疑韩2身高有些类似,许多人用图像测量得出的结果误差很大。但相同的测量方法精度很高!还有SEM作为材料分析平台,做化学成分分析,晶体结构分析。偏差可以保证2%以内。最后总结:精度靠方法和条件保证!前提是方法一致,条件不要变化!!

SEM是

扫描电子显微镜

,主要用于电子显微成像,接配电子显微分析附件,可做相应的特征分析,

最常用的是聚焦

电子束

和样品相互作用区发射出的元素特征

X-射线

,可用EDS或者WDS进行探测分析,获得微区(作用区)元素成分信息,而EDS或者WDS这类电子显微分析附件却来源于EPMA。

SEM就是一个电子显微分析平台,分析附件可根据用户需要来选配,有需要这个的,有需要那个的,因此

扫描电镜

结构种类具有多样性,从tiny、small、little

style,to

middle、large、huge

style.

就EDS或WDS分析技术来讲,在SEM上使用,基本上使用无

标样

分析,获得很粗糙的

半定量

结果。

而EPMA在SEM商品化10年前,就已经开始实用了,其主要目的,就是要精确获得微米尺度晶粒或颗粒的成分信息.

主要分析手段是WDS,一般配置4个WDS,基于此,EPMA结构比较单一,各品牌型号结构差距不大。EMPA追求电子显微分析结果精准,因此

电子光学

设计不追求高分辨,电子显微分析对汇聚束的要求相匹配即可。

早期EPMA成像手段主要采用同轴

光学显微镜

,然后移动样品台或移动汇聚电子束,找到感兴趣区,当前依然保留同轴光镜,用来校准WD。EMPA对电子光学系统工作条件的稳定性要求超过SEM很多很多,控制系统增加了一些

负反馈

机制,确保分析条件和标样分析保持很小的误差。

问题不详。。

粒径大概范围是多少?SEM有自身的分辨率限制的。。不同设存在差异,好的2nm左右。。

如果分辨率可接受。就是测量方法的问题,根据放倍率进行换算。。如有标准物进行校准是最好的。


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