SEM基本上是可以对所以类型的试样进行图像处理,粉末,半导体,高分子材料,陶瓷,金属,地质材料,生物样品等。然而有些特殊的样品通过SEM收集高质量的照片,是需要操作者使用额外的样品制备的方法,这个额外的样品制备方法,通常是在试样的表面溅射一层导电薄膜材料,通常在5-20nm左右。
需要溅射的样品
非导电材料
通常我们需要溅射喷金的非导电材料,由于它们的材料本身的非导电性,其表面带有电子陷阱,这种表面的电荷的聚集,容易造成样品表面的放电现象,是严重影响到样品的图像质量。为了消除放电现象,我们通常的解决问题的方法是降低扫描电镜样品室的真空度,这样可以将样品表面的引入正电荷的分子,它可以与放电电子相互中和,从而消除放电现象,但是此种方法并不是获取高分辨率的图像的有限办法。
获取高分辨率高质量的SEM图像,建议操作人员使用 离子溅射仪 ,在样品表面溅射一层金属薄膜,将放电电子从样品表面转移走。
电子束敏感样品
对于SEM需要喷金的另外一类样品室电子束敏感样品。这类样品通常是生物样品和高分子样品,尤其是锂电池隔膜等。SEM的电子束具有较高的能力,在电子轰击样品的过程中,他会在样品的表面形成能力的聚集,会对样品的表面形成灼伤,从而损坏样品表面的微观相貌,这种情况下,我们会在非电子束敏感样品的表面溅射一层金属薄膜从而起到保护作用,防止样品的损失。
为了准确高分辨率高质量的SEM图像,建议操作人员选择使用离子溅射仪,在样品表面溅射一层导电通路。 离子溅射仪 的样品制备技术可以有效的提高SEM图像的质量和分辨率,在扫描电子显微镜的成像过程中,溅射材料可以有效的提高信噪比,从而获取更高质量的成像。
离子溅射仪的缺点
由于操作简单,在使用离子溅射仪的过程中,操作人员大可不必有太多的顾虑,在操作人员需要不断调整离子溅射仪的参数,寻找合适的溅射效果,另外离子溅射有一个缺点是,溅射后的样品,不再是原始的材料,元素的衬度信息会有所丢失。但在大多数的情况下,通过多次模式参数,操作人员是可以既能够得到高分辨高质量的图像,又不会丢失样品的原始信息。
溅射材料
通常溅射的材料是金属材料,因为导电性高,溅射颗粒小,例如我公司生产的GVC-2000磁控离子溅射仪,在溅射黄金靶材的时候,我们可以达到5-10nm的金属颗粒,如果选用铂金颗粒的直径会更小达到5nm以内,此款仪器主要配备各大电镜厂家生产的场方式电镜,正是因为溅射的颗粒小,在高分辨下,图像是没有颗粒感,可以得到较高的质量的电镜图像。
此外,如果需要EDS能谱分析时,SEM操作人,可以通过EDS分析软件屏蔽靶材的元素选项,从而不会影响X射线与其他的元素的峰值发生冲突。
当然,我公司生产的 GVC-2000磁控离子溅射仪 ,可以支持多种靶材的选项,例如,铬,银,铜,铱等,如铜,铝等是需要接入氩气的,仪器预留好了氩气接口,可以支持链接氩气瓶使用,从而得到更小的金属颗粒,获取更高分辨率的图像。
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一、根据不同材质靶材可分为:金属靶材,陶瓷(氧化物、氮化物等)靶材,合金靶材。二、根据不同应用方向可分为(了解)
1、半导体关联靶材:
电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,铝硅合金靶材,铝硅铜合金靶材等。
储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。
粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。
电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。
2、磁记录靶材:
垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。
硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬铂合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。
薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。
人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。
3、光记录靶材:
相变光盘记录薄膜:硒化碲靶材,硒化锑靶材,锗锑碲合金靶材,锗碲合金靶材等。
磁光盘记录薄膜:镝铁钴合金靶材,铽镝铁合金靶材,铽铁钴合金靶材,氧化铝靶材,氧化镁靶材,氮化硅靶材等。
金属靶材,是属于靶材的范畴,靶材就是镀膜用的基底,不同的靶材镀不同的膜,比如液晶显示器,平板电脑就是用的ITO靶材,ITO靶材是金属氧化物靶材,还有AZO靶材,等等,用于镀膜,手机膜,电脑膜,镀好的膜不是像玻璃那样用的,比如ITO膜在液晶显示器中作为阳极使用,要导电性好,透光性好,一个显示器的膜是有好几层的,金属靶材同样的道理,用于镀膜,生产的话,方法就多了,比如铌靶是在惰性气体气氛下,高温气氛烧结过程中,加压成型,而ITO靶材和AZO靶材就可以粉浆浇筑和模压成型,具体的你可以去看学术论文和专利。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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