2、其次先上低倍钨丝试试,磁场比较低,没有晃动或者照片异常等等的话再去上场发射。
3、最后不可用磁铁直接靠近样品进行测试即可。
我认为不可行。材料的腐蚀机理多种多样,有可能是畸变、位错、结构的不均匀性、夹杂等因素导致形成局部腐蚀微电池,你怎么区分腐蚀区域是什么原因造成的,生成的化合物是什么,是几价?每种原因速率肯定不一样,生成的元素含量都会有差别。而且初始厚度是多少怎样确定?加工都会有误差。既然要用到SEM这类仪器,不做到微观层次的分析意义就不大了欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
2、其次先上低倍钨丝试试,磁场比较低,没有晃动或者照片异常等等的话再去上场发射。
3、最后不可用磁铁直接靠近样品进行测试即可。
我认为不可行。材料的腐蚀机理多种多样,有可能是畸变、位错、结构的不均匀性、夹杂等因素导致形成局部腐蚀微电池,你怎么区分腐蚀区域是什么原因造成的,生成的化合物是什么,是几价?每种原因速率肯定不一样,生成的元素含量都会有差别。而且初始厚度是多少怎样确定?加工都会有误差。既然要用到SEM这类仪器,不做到微观层次的分析意义就不大了欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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