事先做好一块母版,然后放到半导体材料(事先在表面刷上一层感光材料)上,材料的有些地方被母版遮住了,有些地方没被遮住,然后光照。被光照过的地方感光材料发生了化学反应形成了其他物质,而没有被照过的地方保持原样。然后用化学腐蚀剂把感光材料去除掉,这时候,材料上就形成了两种不同的情况。有些地方被腐蚀,凹进去,有些地方没被腐蚀,凸出来,然后再进行掺杂,形成希望的半导体结构。多次重复,半导体电路就形成了。
这里面没有一根金属线,全部靠半导体材料形成的图形实现电路功能。
晶圆边缘的检测 随着特征尺寸的缩小,晶圆表面任何一部分都不允许闲置不用,器件越发地靠近边缘。
当在器件结构上线宽持续变窄后,我们不能够再忽视晶圆的边缘了。
这背后的原动力是对于降低日益恶化的表面污染的需求,粗糙的、坑洼或者断裂的边缘会引起表面污染,同时也要防止灾难性的污染 -晶圆在工艺腔体里的爆裂。
此外,如果不做边缘检查,那么晶圆表面积的5-7%就没有了,这是需要重视晶圆边缘的技术原动力。
因此对于晶圆的检查不能再忽视边缘。
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