如果对于微观结构不必要了解,用其他方法更简单使用。
孔隙率测量方法如下:1、测量孔隙率,需要结合测量的工具,它是基于阿基米德的原理,实验的过程当中需要通过水煮法来测定电极的孔隙率。将样品先承重,记为M0。放到干净的烧杯中,注入水,直至淹没,接下来再将烧杯直接放到干燥箱中,先要加热,直到沸腾。
2、而沸腾的状态,需要保持两个小时,等到水完全渗透到电极中的空气,停止加热,同时还要将室内的温度降低。将试样取出放到小吊篮中,把它放在吊钩上,样品要没过水,这时候再称重,计为M1。
3、将样品取出,表面的水分全部擦干,再称,这时候的重量记为M2。可以通过公式计算出电极的孔隙率,拿M2减去MO的重量除以M2减去M1的重量差,就能够得到孔隙率是多少。
这个问题,是大家都很关注的。因为NF膜表面的话SEM是得不到数据的,AFM也不行的。。SEM就算放大30W倍也不行个。。在此,给大家介绍一个相较可行的方法: 膜的孔径测量一般用汞压法可以测量。首先要说明白,膜的表面孔径是一个平均孔径,它和膜的孔隙率都是表征膜的重要数据。但是一般要说膜的截留性能,尤其是超滤或纳滤膜,一般使用截留分子量来表示。因为到了微米或纳米级别的膜孔,很难用直接观察到孔径和孔隙率,当然,如果用氮气吸附作空隙率和平均孔径的话也是有人这么做过,但是由于膜的支撑层的孔径更大,所以数据是没有什么意义的。 可以间接测量,比如某种分子的脱除率,或者测截留分子量比如需要测定100-200nm孔径的中空膜,可以选择300nm.100nm的微粒溶液,进行测定其阻止率,用来说明此孔径的具体分布。。。相对比较好用。而且,在日本的很多公司也都认可,该方法测定的数据。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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