您好，我想请问一下在蒸镀SiO2时，不同波长的光所对应的SiO2厚度及折射率应该怎么计算？

这可是行业里面的专业知识，折射率是材质的一种特性，SiO₂(二氧化硅)折射率是固定的不能改变。光的波长，以纳米为单位，770～622nm，感觉为红色；622～597nm，橙色；597～577nm，黄色；577～492nm，绿色；492～455nm，蓝靛色；455～390nm，紫色。其实我还不太明白你到底是要问什么，你这里说的是LED利用SiO₂折射聚光吗？

要是放大倍数要求不大的话，建议采用环境扫描电镜，那个在20000倍以下，成像效果挺好的。我的是喷金以后，用场发射电镜，效果也挺好的啊

你是不是用手不小心抹掉了，二氧化硅薄膜很脆弱的

一般来说，300nmSiO2wafer在光学显微镜下衬度比较好，很多文献上有说的。

对于电学测量，看看你要不要加backgate了，如果加backgate的话，需要Si是高掺杂的低电阻。SiO2层越薄，gate响应会强一些。但是太薄了，会有击穿的问题。还有就是如果氧化层的质量不好，有pinhole的话，也容易出现leakage。

拓展：

硅（Silicon），是一种化学元素，化学符号是Si，旧称矽。原子序数14，相对原子质量28.0855，有无定形硅和晶体硅两种同素异形体，属于元素周期表上第三周期，IVA族的类金属元素。硅也是极为常见的一种元素，然而它极少以单质的形式在自然界出现，而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅的形式，广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中。硅在宇宙中的储量排在第八位。在地壳中，它是第二丰富的元素，构成地壳总质量的26.4%，仅次于第一位的氧（49.4%）。

---