金属试样做SEM和EDS之前需要侵蚀吗？

如果你只是做金属材料中的夹杂等成分，可以不用侵蚀，直接使用背散射观察，然后用EDS进行

成分分析

；如果你需要看材料的

基本组织

，第二相等，需要侵蚀，然后SEM观察，同时可在感兴趣的位置进行EDS，包括点、线、面的成分分析。

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀 20min 后进行镀金，然后放入 SEM样品室内进行观察，电子枪电压采用 20kV，电子束流为 150 mA，并用照相方式记录样品的二次电子图像 ( 或称之为形貌像) 。

SEM抛光我想应该是要清洁一下表面，避免表面含有一些脏东西之类的，如果是要看组织，不仅最后不是抛光，而且做SEM之前还需要腐蚀，SEM的二次电子成像原理就是要求表面凹凸不平，如果抛光了的话就没办法看二次电子像了，只能用背散射看了

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