产生这种电位差的机理有好几种,主要的一种是由于阻挡层的存在。以下以P-N结为例说明。
热平衡态下的P-N结同质结可用一块半导体经掺杂形成P区和N区。由于杂质的激活能量ΔE很小,在室温下杂质差不多都电离成受主离子NA-和施主离子ND+。在PN区交界面处因存在载流子的浓度差,故彼此要向对方扩散。设想在结形成的一瞬间,在N区的电子为多子,在P区的电子为少子,使电子由N区流入P区,电子与空穴相遇又要发生复合,这样在原来是N区的结面附近电子变得很少,剩下未经中和的施主离子ND+形成正的空间电荷。同样,空穴由P区扩散到 N区后,由不能运动的受主离子NA-形成负的空间电荷。在P区与N区界面两侧产生不能移动的离子区(也称耗尽区、空间电荷区、阻挡层),于是出现空间电偶层,形成内电场(称内建电场)此电场对两区多子的扩散有抵制作用,而对少子的漂移有帮助作用,直到扩散流等于漂移流时达到平衡,在界面两侧建立起稳定的内建电场。
P-N结能带与接触电势差:
在热平衡条件下,结区有统一的EF;在远离结区的部位,EC、EF、Eν之间的关系与结形成前状态相同。
从能带图看,N型、P型半导体单独存在时,EFN与EFP有一定差值。当N型与P型两者紧密接触时,电子要从费米能级高的一方向费米能级低的一方流动,空穴流动的方向相反。同时产生内建电场,内建电场方向为从N区指向P区。在内建电场作用下,EFN将连同整个N区能带一起下移,EFP将连同整个P区能带一起上移,直至将费米能级拉平为EFN=EFP,载流子停止流动为止。在结区这时导带与价带则发生相应的弯曲,形成势垒。势垒高度等于N型、P型半导体单独存在时费米能级之差:
qUD=EFN-EFP
得
UD=(EFN-EFP)/q
q:电子电量
UD:接触电势差或内建电势
对于在耗尽区以外的状态:
UD=(KT/q)ln(NAND/ni2)
NA、ND、ni:受主、施主、本征载流子浓度。
可见UD与掺杂浓度有关。在一定温度下,P-N结两边掺杂浓度越高,UD越大。
禁带宽的材料,ni较小,故UD也大。
光照下的P-N结
P-N结光电效应:
当P-N结受光照时,样品对光子的本征吸收和非本征吸收都将产生光生载流子。但能引起光伏效应的只能是本征吸收所激发的少数载流子。因P区产生的光生空穴,N区产生的光生电子属多子,都被势垒阻挡而不能过结。只有P区的光生电子和N区的光生空穴和结区的电子空穴对(少子)扩散到结电场附近时能在内建电场作用下漂移过结。光生电子被拉向N区,光生空穴被拉向P区,即电子空穴对被内建电场分离。这导致在N区边界附近有光生电子积累,在P区边界附近有光生空穴积累。它们产生一个与热平衡P-N结的内建电场方向相反的光生电场,其方向由P区指向N区。此电场使势垒降低,其减小量即光生电势差,P端正,N端负。于是有结电流由P区流向N区,其方向与光电流相反。
实际上,并非所产生的全部光生载流子都对光生电流有贡献。设N区中空穴在寿命τp的时间内扩散距离为Lp,P区中电子在寿命τn的时间内扩散距离为Ln。 Ln+Lp=L远大于P-N结本身的宽度。故可以认为在结附近平均扩散距离L内所产生的光生载流子都对光电流有贡献。而产生的位置距离结区超过L的电子空穴对,在扩散过程中将全部复合掉,对P-N结光电效应无贡献。
光照下的P-N结电流方程:
与热平衡时比较,有光照时,P-N结内将产生一个附加电流(光电流)Ip,其方向与P-N结反向饱和电流I0相同,一般Ip≥I0。此时I=I0eqU/KT - (I0+Ip)
令Ip=SE,则
I=I0eqU/KT - (I0+SE)
开路电压Uoc:
光照下的P-N结外电路开路时P端对N端的电压,即上述电流方程中I=0时的U值:
0=I0eqU/KT - (I0+SE)
Uoc=(KT/q)ln(SE+I0)/I0≈(KT/q)ln(SE/I0)
短路电流Isc:
光照下的P-N结,外电路短路时,从P端流出,经过外电路,从N端流入的电流称为短路电流Isc。即上述电流方程中U=0时的I值,得Isc=SE。
Uoc与Isc是光照下P-N结的两个重要参数,在一定温度下,Uoc与光照度E成对数关系,但最大值不超过接触电势差UD。弱光照下,Isc与E有线性关系。
a)无光照时热平衡态,NP型半导体有统一的费米能级,势垒高度为qUD=EFN-EFP。
b)稳定光照下P-N结外电路开路,由于光生载流子积累而出现光生电压Uoc不再有统一费米能级,势垒高度为q(UD-Uoc)。
c)稳定光照下P-N结外电路短路,P-N结两端无光生电压,势垒高度为qUD,光生电子空穴对被内建电场分离后流入外电路形成短路电流。
d)有光照有负载,一部分光电流在负载上建立起电压Uf,另一部分光电流被P-N结因正向偏压引起的正向电流抵消,势垒高度为q(UD-Uf)。
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