LEED结构也应用在透射电子显微镜(TEM)中,利用聚焦到很小光斑的电子束对纳米结构中的局域有序做结构探测。
LEED只能够作晶格类型分析,不能进行元素分析。
2、反射式高能电子衍射(RHEED),主要应用于分子束外延等设备的原位监测,能够很好的反映表面晶格的平整度,观测材料生长中的衍射强度及位置的振荡。
3、电子显微镜附件,主要是场发射扫描电子显微镜(FESEM),一般属于附件,称选区电子衍射(SAD),可以利用质能选择器对反射电子作元素分析,能够分析很小的区域元素组成,但结果较为粗糙。
电子衍射的原理可以参考XRD,观测到的衍射花纹都是表面晶格的倒易格点,可能是一套,也可能是几套。
一般,除了纳米材料研究中在电镜用电子衍射中常将衍射花纹作为晶格类型的佐证外,常规的LEED和RHEED并不作体材料三维晶格研究,而只用于表面晶格的判定,因为电子衍射一般只能反映晶格的二维表面结构,而不同晶体结构的晶体之间,它们的某一表面取向上它的对称性及衍射斑点可能会完全一致。
电子衍射一般只用于测试二维晶体结构,无法简单作三维体晶格判定,更无法单独作元素判定。
所以你所说的ED测定晶格的说法是要注意的,ED很少或几乎没有单独研究三维晶体结构。
电子衍射结构其实很简单,简单讲就三个部件:
1、灯丝,用于产生电子
2、加速电压,
⑴
电子加速电压
(电压大小要单独可控)
⑵
xy平面内的转向电压
3、荧光屏,注意导电接地。
此外电子衍射还需要有一个超高真空腔体作为设备的基础;
还要有一个位置可调的多维样品架(样品台)系统;
如果需要做衍射斑点位置亮度分析,还要有CCD图像采集系统。
一、性质不同
1、SEM:根据用户使用搜索引擎的方式利用用户检索信息的机会尽可能将营销信息传递给目标用户。
2、TEM:把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。
二、原理不同
1、TEM
(1)吸收像:当电子被发射到高质量和高密度的样品时,主要的相位形成是散射。当样品的质量和厚度较大时,电子的散射角较大,通过的电子较小,图像的亮度较暗。早期透射电子显微镜(TEM)就是基于这一原理。
(2)衍射像:电子束被样品衍射后,样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分的不同衍射能力。当出现晶体缺陷时,缺陷部分的衍射能力与整个区域的衍射能力不同,使得衍射波的振幅分布不均匀,反映了晶体缺陷的分布。
2、SEM
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扩展资料:
TEM特点:
1、以电子束为光源,电磁场为透镜。电子束的波长与加速电压(通常为50-120千伏)成反比。
2、它由五部分组成:电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统和电源系统。
3、分辨率为0.2nm,放大倍数可达一百万倍。
4、透射电镜分析技术是一种高分辨率(1nm)高倍率的电子光学分析技术,它以波长很短的电子束为光源,聚焦于电磁透镜成像。
5、用透射电镜分析样品,通常有两个目的:一是获得高倍率的电子图像,二是获得电子衍射图样。
6、透射电镜常用于研究纳米材料的结晶,观察纳米颗粒的形貌和分散度,测量和评价纳米颗粒的粒径。这是表征纳米复合材料微观结构的常用技术之一。
参考资料来源:百度百科-TEM
参考资料来源:百度百科-搜索引擎营销
SEM,全称为扫描电子显微镜,又称扫描电镜,英文名Scanning Electronic Microscopy. TEM,全称为透射电子显微镜,又称透射电镜,英文名Transmission Electron Microscope.
区别:
SEM的样品中被激发出来的二次电子和背散射电子被收集而成像. TEM可以表征样品的质厚衬度,也可以表征样品的内部晶格结构。TEM的分辨率比SEM要高一些。
SEM样品要求不算严苛,而TEM样品观察的部分必须减薄到100nm厚度以下,一般做成直径3mm的片,然后去做离子减薄,或双喷(或者有厚度为20~40μm或者更少的薄区要求)。
TEM可以标定晶格常数,从而确定物相结构;SEM主要可以标定某一处的元素含量,但无法准确测定结构。
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