用SEM测超薄薄膜厚度，如何制样才能保证导电性足够好？

想准确测定厚度还是很麻烦的，关键就在于制样，关于镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的，标准名称我不太记得了，改天给你发过来也行（如果需要），大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍，然后把材料固化在树脂中，再做截面，或者抛光，然后再测定，关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题，喷金或者喷碳就可以解决.

SEM全称是扫描电子显微镜。

一般常用微观形貌观测模式。电流大小是由电流密度和镀件面积决定的，电流密度是由各电镀工艺决定的。那么，知道了这几个条件怎样计算镀层厚度或者时间呢？首先要了解电化当量的概念，所谓电化当量，就是单位电流和单位时间内能够镀出的金属的质量（重量），电镀常用的电化当量单位是克/安培小时，不同的金属有不同的电化当量，可以查相关资料得到，也可以自己计算出来，计算方法是金属的克当量（就是金属的原子量除以它的价数）除以26.8。

比如，镍的原子量是58.69，价数是2，它的克当量就是58.69/2=29.35，它的电化当量就是29.35/26.8=1.095（克/安培小时）。怎样由电化当量计算镀层厚度呢？举个例子，比如镀镍，已知电化当量是1.095克/安培小时，假定给的电流密度是3A/平方分米，那么1平方分米面积，镀1小时，就是3安培小时，就会镀出1.095乘以3，等于3.225克镍，这么多的镍分布在1平方分米的面积上，镍的密度（比重）是8.9，不难算出镀层厚度是3.6丝，考虑到电流效率不是100%，镀镍电流效率一般为95%，修正后镀层厚度就是3.6乘以0.95=3.4丝。

自己排队倒还没看到过wjack6827(站内联系TA)可是纳米粒子合成过程中条件控制的问题吧，不同的配方，不同的手法做出来的东西是有差别的，还有可能是结晶度好不好的问题！哈哈仅供参考！redspy(站内联系TA)合成的时候加东西 粒子表面有一层包裹体（一般情况是有机物，很难测量出来）可能就是所谓的超晶格不过sem 能看到么 ！好像都是 TEM 测试吧！虫虫512(站内联系TA)将样品分散在易挥发的溶剂中，滴到样品台上沉积一定的时间，用滤纸吸走多余样品和分散剂，挥发干后再喷金作样测量！供参考lylpop(站内联系TA)呵呵这不是制样问题，这是人家合成过程控制得好，形貌均一。尺度均匀这照出的电镜才好看，文章档次就上去了:):):):):):)yuan0019(站内联系TA)跟你的样品和制样很有关系。也可以先分散在酒精中，超声分散30min，吸一滴到样品台上，让它风干nano-metaloxide(站内联系TA)样品排列的好，是因为样品本身就长得好，与制样没关系。要定向生长，照片才会好看。

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