简要说明sem的二次电子像的成像原理,二次电子像主要反映试样的什么特征

你说的是SEM电镜吧，这主要是它的成像原理导致的其可以反映样品表面或者断面的形貌信息。SEM的工作原理为：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品表面作光栅状扫描并且激发出多种电子信号。这些电子信号被相应的检测器检测，经过放大、转换，变成电压信号，最后被送到显像管的栅极上并且调制显像管的亮度。显像管中的电子束在荧光屏上也作光栅状扫描，并且这种扫描运动与样品表面的电子束的扫描运动严格同步，这样即获得衬度与所接收信号强度相对应的扫描电子像，这种图象反映了样品表面的形貌特征。

又没人回答~~~~~~~算了，鉴于条件异常恶劣，暂不作图说明。二次成像，通常是经透镜折射后并没有马上显现在光屏上，而是通过又一透镜成像于光屏。相对于物体来讲是近似于虚像的实像，如望远镜，显微镜等，都是运用了二次成像原理成像。但有时二次成像也有可能是虚像，如显微镜。其虚实需要根据两透镜之间的距离和焦距确定。这只是课本上的内容，如果需深入讨论，QQ联系。

有以下四个特点。

贝塞尔法（又称二次成像法）测凸透镜焦距时，两次成像存在共轭关系。在光学成像中,物方和像方具有一对一映射关系的两点Q和Q',根据光路可逆原理,如果在Q点放置光源,将在Q'点成像,反之亦然.这样互相对应的两点,称为一对共轭点.共轭点可组成共轭线,进而有共轭面。

相干照明下透镜成像过程可以分为两步：首先，物面上发出的光波经透镜，在其后焦面上产生夫琅和费衍射，得到第一次衍射像；然后，该衍射像作为新的相干波源，由他发出的次波在像面上干涉而构成物体的像，称为第二次衍射像。

成像过程的这两步本质上就是两次傅里叶变换。如果这两次傅里叶变换是完全理想的，即信息没有任何损失，则像和物应完全相似。

如果在频谱面上设置各种空间滤波器，挡去频谱某一些空间频率成份，则将会使像发生变化。空间滤波就是在光学系统的频谱面上放置各空间滤波器，去掉(或选择通过)某些空间频率或者改变它们的振幅和相位，使二维物体像按照要求得到改善。这也是相干光学处理的实质所在。

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