瓷砖镀金机镀膜真空怎么调？

镀膜机操作步骤

1、打开冷却水开关、空压机开关（空压机红色按钮向上拔为打开，向下按为关闭）和镀膜机总电源开关。

2、将玻璃基板至于样品托中，导电一面向下，刻蚀带一侧靠近样品托蓝色线条一侧。

3、预处理室放气，待放好气后拧紧放气阀，打开预处理室仓门，将样品托放在推拉杆上，关闭仓门。

4、打开机械A、机械B泵及四个真空计。

5、基片预处理：打开角阀，当预处理室真空度达到2.0E1 ～5.0E1 (2.0×10～5.0×10)Pa时，关闭角阀、打开真空蒸镀室角阀。打开直流溅射电源、再按下启动按钮，调节电流0.020-0.025A，轰击10分钟，将电流调节至0A，按下停止按钮，关闭电源。

6、打开A泵，角阀，待度达4.0E0以下时，即当两边真空气压基本相当的的时候（约十分钟），关闭角阀，A阀，打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀（顺时针方向开，逆时针方向关），检查旋转台下的挡板，一定要将挡板放在恰当位置。样品传送至蒸镀室，用机械手抓取样品托，并保持在机械手上；然后将推拉杆拉回至预处理中，关闭闸板阀；降低蒸镀台与机械手平齐，将样品托轻轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽（上方导引槽）。

7、当蒸镀室真空度达到1.2E1（1.2×10） Pa以下时，关闭角阀、机械A泵。打开闸板阀，将蒸镀室抽高真空至7.0E-4Pa（约2个小时）。

8、插入掩模板：将样品升降电源调到手动，将蒸镀台旋转180度（用皮带精确定位），用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版库轨道，至于同一水平线上，用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩模板导引槽。（注意机械手用完一定要挂起）

9、蒸镀过程：打开快门总开关，膜厚测试仪（F1是清零，F5是开始或停止）放样品托的架子升最高，且旋转。打开PID（束源炉）开关，调节温度，依次蒸镀相关材料，制备OLED器件。

10、若继续实验，打开机械A泵、预处理室角阀，至预处理室真空度达到4.0E0（4.0×1） Pa以下，同时将掩膜版归位，用机械手将样品托取下。打开闸板阀，将推拉杆推至蒸镀室中，将样品托放到推拉杆上，抽回至预处理室，关闭闸板阀,将预处理室放气至大气压，将样品托取出，真空室保持在高真空条件下。

11、若不再实验，则关闭闸板阀，放气（真空室顶部放气按钮）。打开真空室，取出样品。打开快门控制电源，打开快门1，更换钨丝（每做一次实验更换一次），将铝丝挂在钨丝上（5个，挂于弯折处），检查蒸镀所需材料。关闭真空室，待分子泵数字为零时关闭分子泵后关闭机械泵B。打开机械泵A，真空室角阀，对真空室抽低真空至12Pa以下，关闭角阀，机械泵A，关闭电源。

如果长时间不用时一定要关闭循环水冰柜电源，以防冻裂。

1、高真空环境是分子流，湿的样品不断释放水蒸气，使高真空情况下，真空度很难上升，往往达不到比较优越的条件。

2、水蒸气和2000多度高温的钨丝反应，会加速电子枪灯丝挥发，极大降低灯丝寿命。

3、对电子束的散射，会造成信号损失

4、污染样品

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