用SEM测超薄薄膜厚度，如何制样才能保证导电性足够好？

想准确测定厚度还是很麻烦的，关键就在于制样，关于镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的，标准名称我不太记得了，改天给你发过来也行（如果需要），大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍，然后把材料固化在树脂中，再做截面，或者抛光，然后再测定，关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题，喷金或者喷碳就可以解决.

这个问题有点大

举几个例子给你吧，我不敢说自己知道的很全

1，激光测厚，把物体的底部作为0点，用激光照射，然后读取光被遮挡处的数值，可以测量厚度，广泛应用于镜片厚度测量。

2，反射折射法可以测量已知形状，已知折射率的透明物体的厚度

3，现在广泛使用的分光仪可以测量纳米级薄膜的反射率，从而计算出膜厚度。

诸如此类非常多，权作抛砖引玉。

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