NX-Hivac的优点如下:
1、NX-Hivac 真空自动控制
Hivac 管理器通过一键单击在逻辑和视觉上控制最佳真空条件抽气和排气过程来实现高真空。各个过程通过颜色和图示变化得到直观监控,一键单击后您即可无需操心真空操作顺序。更快速、更简便的真空控制软件使原子力显微镜的使用更便捷更高效。
2、高级自动化特点
NX-Hivac具有大量功能从而能够最大化减少用户输入。换言之,您可以更快速地扫描,提高实验室产量。
3、配备电控载物台的StepScan 自动化扫描
StepScan允许用户能够对器件进行编程从实现而快速便捷地多区域成像。NX-Hivac让您只需五步即可完成样本扫描:扫描、提升悬臂、移动电动平台至用户定义坐标区域、进针及重复扫描。如此可极大地提高生产率,最大化减少用户输入。
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想准确测定厚度还是很麻烦的,关键就在于制样,关于镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的,标准名称我不太记得了,改天给你发过来也行(如果需要),大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍,然后把材料固化在树脂中,再做截面,或者抛光,然后再测定,关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题,喷金或者喷碳就可以解决.这个是可以测成分的,牛津仪器纳米分析部推出了可以在SEM里测量薄膜成分和厚度软件系统ThinFilmID。 ThinFilmID是利用EDS测量薄膜结构的成分和厚度。 这项技术是唯一基于SEM和EDS薄膜分析系统。欢迎分享,转载请注明来源:夏雨云
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