烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ~20 nm 的金,对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀 20min 后进行镀金,然后放入 SEM样品室内进行观察,电子枪电压采用 20kV,电子束流为 150 mA,并用照相方式记录样品的二次电子图像 ( 或称之为形貌像) 。
玻璃的成分一般主要是二氧化硅,氢氟酸与其发生化学反应,有如下效果:1、得到自由表面,便于和金属附着,尤其是不易氧化的金属;
2、腐蚀造成粗糙度增加,形成机械锁合,增强薄膜与衬底的附着力;
3、由于HF有去除二氧化硅的作用,因此,附着在玻璃基片表面的难以去除的污染物、缺陷会被去除.
氧等离子体的作用主要有以下:
1、表面活化,此点和HF类似;
2、利用灰化原理,去除表面有机物;
3、视等离子发生器的频率,有时候会增加粗糙度.
cwsyt大大真是回答的好ㄚ~
可以用紫外光加臭氧清洗,清洗掉有机物,而且处理方式比等离子温柔些
真是牛人啊,知道的很详细啊
四氧化三铁的sem用什么分散制样少加样品粉末,用无水乙醇分散,样品一定要少,铺在导电胶上用洗耳球吹干,干燥后的粉末样品要肉眼看不太出来就比较好了,若是明显的一层恐怕电镜下效果不太理想
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