SEM描
电镜主要应用于微观形貌、颗粒尺寸、微区组成、元素分布、元素价态和化学键、晶体结构、相组成、结构缺陷、晶界结构和组成等。SEM一般通过搭配能谱仪EDS使用,可利用EDS进行元素成分定性、定量分析。用来观测芯片内部层次和测量各层厚度、观测并拍摄局部异常照片和测量异常尺寸、测量芯片关键尺寸线宽和孔径、定性和定量分析异常污 染物的化学元素组成。电镜辐射来源主要源于,电子枪发射的
电子束和电子束激发
样品表面出来的各种信号。而电子束直径只有纳米到10纳米级别,因此产生的辐射很少很少。同时,电镜电子枪位置有大块铅块吸收辐射,样品仓由很厚的金属材料做成,因此对于电镜整体而言,几乎没有对外的辐射。
另外,需要提醒楼主的是,电镜虽然辐射不大,不过电镜样品千奇百怪,不免遇到一些有毒有害的物质材料,楼主需要做好保护措施(手套,口罩),既保护自己,又保护电镜和样品不受污染
可以。SEM 中有三个扫描圈:物镜极靴内的扫描线圈是用于电子探针在样品表面扫描;观察和照相用显象管中的扫描线圈是用于控制阴极摄像管(CRT)中的电子束以便在荧光平上作同步扫描。SEM进行形貌分析时都采用光栅扫描方式。SEM 的倍率放大是通过改变镜筒中扫描电圈电流大小来控制的,这样就可以改变样品扫描区域大小,进而改变倍数。
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