纳米氧化铝XRD图谱怎么分析

很好撒，峰很强，很清楚的阿尔法氧化铝图谱。你要分析什么东西？如果你要看是不是阿尔法氧化铝，那么它是。

你可以比照标准图谱，就清楚了。

最多再看看有没有其他晶型的氧化铝杂质峰。其他的估计看不出来。特别是纳米不纳米的，XRD看不出来

一．抛光粉的总类：

抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化硅为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。

二．对抛光粉的基本要求：

（1）微粉粒度均匀一致，在允许的范围之内；

（2）有较高的纯度，不含机械杂质；

（3）有良好的分散性，以保证加工过程的均匀和高效，可适量添加分散剂提高悬浮率；

（4）粉末颗粒有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的棱角，以提高抛光效率；

（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸润性和悬浮性，因为抛光粉需要与水混合

粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合于较硬的材料，要注意的是，所

有的抛光粉的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必须控制抛光粉的最大颗粒。普通抛光粉之所以存在划伤，就是有大颗粒的原因。所以一般选择粒径分布范围窄的纳米抛光粉（VK-L300F）。

  抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低以得到合适的流动性，一般建议在7-10%

三．抛光模的选择

抛光模应该用软一点的。应该指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。一般最好使用不加抛光粉的抛光模。

四．影响抛光粉性能的指标

1、粉体的粒度大小：颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度，过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

2、粉体莫氏硬度：硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。

3、粉体悬浮性：好的抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，纳米粒径的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，所以精抛一般选择纳米抛光粉。

4、粉体的晶型：粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

五．抛光范围细分：

作为精细抛光材料，目前市场上用量最大的几类抛光粉主要是氧化铝抛光粉，氧化铈抛光粉，氧化硅抛光粉等。

1．氧化铝抛光粉：

氧化铝抛光粉（VK-L300F）一般用于大理石石材抛光，金属铝材抛光，金属不锈钢抛光，金相（亚克力板）抛光，PCB印制电路板抛光，油漆抛光，树脂抛光，玉石抛光，颗粒大小根据要求一般分布在0.2-0.5um之间。

  2. 二氧化硅抛光粉：

一般用于人工晶体，宝石抛光，或者金属制品精抛后修复其少量的瑕疵。其粒径一般分布在0.3-1um

  3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce02W)：

用于镜头、电视显像管、眼镜片、晶圆，光学元件、光纤、艺术玻璃、电子玻璃、平板玻璃等的抛光。一次粒径一般要求在20-30nm,二次粒径一般要求0.2um。

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