用SEM测超薄薄膜厚度,如何制样才能保证导电性足够好?

用SEM测超薄薄膜厚度,如何制样才能保证导电性足够好?,第1张

想准确测定厚度还是很麻烦的,关键就在于制样,关于镀层或者薄膜厚度的测定有相关标准的,标准名称我不太记得了,改天给你发过来也行(如果需要),大概意思是说在要测的镀层外面再镀一层镍,然后把材料固化在树脂中,再做截面,或者抛光,然后再测定,关键是不要破坏镀层.关于SiO2不导电的问题,喷金或者喷碳就可以解决.

试样的要求

试样可以是块状也可以是粉末状,在真空中能保持稳定,含水分的式样应该先烘干除去水分。表面受到污染的样品,要在不破坏试样结构的情况下清洗烘干。新断开的断口或断面,一般不需要进行处理,以免破坏断口或断面的结构形态.对磁性样品要求预先去磁,以免观察时电子束受磁场影响.

2.块状样品

对于导电样品,除了大小要适合仪器样品座尺寸外,基本不需进行其他制备,用导电胶把样品粘在样品座上,即可放在扫描电镜下观察.对于非导电或导电性差的样品,要进行镀膜处理,在材料表面镀一层导电膜,以避免在电子束照射下产生电荷积累,影响图象质量,并可以防止样品的热损伤.

3.粉末样品

需黏结在样品座上,黏结方法是可以在样品座上先贴一层导电胶或火棉胶溶液,将试样撒在上面,待试样被粘牢后用吸耳球将表面未被粘住的样品吹去.也可将样品制备成悬浮液滴在样品台上,待溶液挥发粉末附在样品座上.样品粘在样品座上,需再镀层导电膜,然后才能放在扫描电镜下观察.

[search]扫描电镜样品植被方法[/search]

仅供参考(详细访问:网页链接)

透射电镜试样制备:

一、实验内容及目的:了解透射电镜对试样的要求,熟悉透射电镜试样的制备过程,制备一个合格的透射 电镜试样。

二、薄膜样品的制备:用于透射电镜下观察的试样厚度要求在50-200nm 之间,对于不导电的陶瓷材料和脆性材料,最终减薄可采用离子减薄法。

该法是用离子束在样品的两侧以一定的倾角(5-30)轰击样品,使之减薄。由于陶瓷样品硬度高,耐腐蚀,因此,离子减薄的时间长。对于要求较高的金属薄膜样品,在双喷后再进行一次离子减薄,效果会更好。

预减薄

预减薄的目的在于使圆片的中心区域进一步减薄,以确保最终在圆片的中心部位穿孔(其边缘附近区域可供观察),预减薄通常采用专用的机械研磨机,使中心区域减薄至约10μm厚,借助于微处理器控制的精密研磨有时可以获得使电子束透明的厚度(<1μm).有时也用化学方法进行预减薄。

以上内容参考:百度百科-样品制备


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