ocd光学线宽测量和cd-sem的区别

SEM作为显微镜，可以放大微观物体形态，一般允许误差在放大倍数±5%。在相同工作条件下，放大倍数一般不会漂移，精度可靠。但随着温湿度变化，随着电磁环境变化，可能会有漂移。因为SEM放大和光学显微镜放大完全不同，完全靠扫描线圈和电器元件控制，电器元件的老化，可能会引起放大倍数漂移，因此过两年需要校准放大倍数。另外SEM图像尺寸测量精度问题，这个情况和方舟子质疑韩2身高有些类似，许多人用图像测量得出的结果误差很大。但相同的测量方法精度很高！还有SEM作为材料分析平台，做化学成分分析，晶体结构分析。偏差可以保证2%以内。最后总结：精度靠方法和条件保证！前提是方法一致，条件不要变化！！

对于快速地检测电子束曝光制造出的小纳米结构的尺寸和缺陷并保证其不受到损伤是纳米加工进入10nm尺度面临的另一重大技术问题。同时,在集成电路制造中,多层制造需要对标记进行极高精度的检测"显然,光学的无损伤检测方式己无法应用于10nm尺度范围,因此基于能量束的检测方法是必须采取的方式"。

目前工业界采用CD一SEM对小特征尺寸进行测量。

光刻机巨头ASML称东方晶源可能侵权，中企对此作何回应？下面就我们来针对这个问题进行一番探讨，希望这些内容能够帮到有需要的朋友们。

荷兰光刻机大佬阿斯麦（ASML）声称，中国公司东方晶源（DongFangJingYuanElectron，DFJY）已经中国积极主动市场销售很有可能（couldpotentially）侵犯该公司专利权的商品。

阿斯麦还称，中国东方晶源与一家早已倒闭的美国公司XTAL存在关系，后面一种曾在2019年被美国法院曾判断侵害阿斯麦的专利权。阿斯麦称，早已告之顾客不必帮助中国东方晶源从业该类潜在性的侵权责任。阿斯麦还表露，该公司已向中国监督机构告知有关信息，已经紧密检测有关状况，并打算在恰当的机会采用法律行动。

对于此事，中国东方晶源的工作员称临时不方便回复这事。而阿斯麦中国层面称，这事与XTAL以前的侵权案相关，是年度报告中的一切正常公布。阿斯麦已经密切关注中国东方晶源的动态性，现阶段并未提前准备采用法律法规对策，但如果有确凿证据该公司将诉诸法律。

中国东方晶源官方网站消息表明，该公司全称之为中国东方晶源微电子科技（北京）有限公司创立于2014年，总公司坐落于北京亦庄经济技术开发区，是一家致力于集成电路合格率管理方法的公司。

从实际业务流程看来，中国东方晶源关键设备为纳米离子束视觉检测武器装备（EBI）和重要规格测量武器装备（CD-SEM）、测算光刻商品（OPC）及其电子光学设计方案与生产制造智能化合格率优化平台（HPOTM）。

中国东方晶源公司在官方网站称，其商品均为自主研发且处在中国领先地位，可以合理处理中国集成电路产业链好几个难题。该公司还提及，中国东方晶源自创立至今坚持不懈以引领发展趋势，申报世界各国专利发明145项，授权专利发明49项，手机软件着作权14项，商标注册15项。

2021年9月，中国东方晶源公布，该公司进行新一轮几亿元股权质押融资，这轮股权融资由赛领资本、深创投领投，诸多著名风险投资机构协同项目投资。“此次股权融资将有利于中国东方晶源加速在集成电路前道离子束检验、测算光刻系统软件等关键商品的产品研发过程，加快在集成电路合格率管理方法行业的总体合理布局。”

阿斯麦公布的财务报告表明，该公司2021年营业收入为186亿欧（折合RMB1339亿人民币），同比增加33%；纯利润为59亿欧（折合RMB425亿人民币），同比增加66%；毛利率是53%，比上年同期提升4个点。2021年，该公司共交货309台光刻机，比2020年空出51台；在其中极紫外光光刻机42台，比2020年多11台。

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