( 1) 粉煤灰的除杂质效果高铝粉煤灰经 800℃ ×2 h 除碳，粉煤灰的烧失量由原来的 2. 10% 降至 1. 02%，除碳效果明显。除碳前、后粉煤灰粒度变化不大 ( 图 6. 5) ，说明粉煤灰中的炭粒与无机颗粒大小相近，分布一致

SPS是利用放电等离子体进行烧结的。等离子体是物质在高温或特定激励下的一种物质状态，是除固态、液态和气态以外，物质的第四种状态。等离子体是电离气体，由大量正负带电粒子和中性粒子组成，并表现出集体性为的一种准中性气体。等离子体是解离的高温导

为什么要用sem测定活性炭孔结构活性炭作为一种优良的物理、化学吸附剂，越来越受到人们的重视。随着活性炭用途的增加，活性炭的检测方法也越来越多。但不同的检测方法有可能会产生不同的性能指标。给活性炭行业之间的信息交流带来困难，同时也给活性炭的出

SPS是利用放电等离子体进行烧结的。等离子体是物质在高温或特定激励下的一种物质状态，是除固态、液态和气态以外，物质的第四种状态。等离子体是电离气体，由大量正负带电粒子和中性粒子组成，并表现出集体性为的一种准中性气体。等离子体是解离的高温导

理论上单纯用SEM不能测出晶型，测晶型一般用XRD等仪器。扫描电镜只能观察形貌，分辨率可达亚微米级别。不过对于特定的样品，如果具有明确的晶型，借助SEM形貌有可能分析出晶型（比如一种物质只有区别明显的两种晶型，借助确定的形貌可以推断是那种晶

( 1) 合成样品的收缩率成型试样经游标卡尺测量，获得 12 个样品的平均高度为 42. 3 mm，平均直径为18. 1 mm，平均密度为 1. 67 gcm3，不同配比试样之间的差异很小，几乎可以忽略不计。将成型试样烧成前后的高

( 1) 合成样品的收缩率成型试样经游标卡尺测量，获得 12 个样品的平均高度为 42. 3 mm，平均直径为18. 1 mm，平均密度为 1. 67 gcm3，不同配比试样之间的差异很小，几乎可以忽略不计。将成型试样烧成前后的高

理论上单纯用SEM不能测出晶型，测晶型一般用XRD等仪器。扫描电镜只能观察形貌，分辨率可达亚微米级别。不过对于特定的样品，如果具有明确的晶型，借助SEM形貌有可能分析出晶型（比如一种物质只有区别明显的两种晶型，借助确定的形貌可以推断是那种晶

( 1) 合成样品的收缩率成型试样经游标卡尺测量，获得 12 个样品的平均高度为 42. 3 mm，平均直径为18. 1 mm，平均密度为 1. 67 gcm3，不同配比试样之间的差异很小，几乎可以忽略不计。将成型试样烧成前后的高

用 SEM 对合成样品的显微结构进行分析发现 ( 图 5. 13) : 在 1300℃下样品结构比较松散，很难发现莫来石晶体的存在，但 XRD 分析告诉我们已经有 70% 以上的莫来石生成，说明 1300℃下样品中的莫来石晶体非常细小，并且

山工装载机已形成了D、E、F、G、H五大系列；ZL16、ZL30、ZL40、ZL50、ZL60、ZL80六大型号七十多个品种；并开发了装煤王、装沙王、超高王、岩石王、耐热王、掘土王、高原王、抓木机、抓管机、抓草机、侧卸机、推雪机、推粮机、装

四十倍。尖晶石催化剂sem放大四十倍，电子显微镜分为扫描电镜和透射电镜，扫描电镜（sem)可以观察三维结构，尖晶石（AB2X4）是一种典型的多配位构型催化剂，其晶体结构中含有四面体配位(A2+?X)Td和八面体配位(B3+?X)Oh，被广泛

四十倍。尖晶石催化剂sem放大四十倍，电子显微镜分为扫描电镜和透射电镜，扫描电镜（sem)可以观察三维结构，尖晶石（AB2X4）是一种典型的多配位构型催化剂，其晶体结构中含有四面体配位(A2+?X)Td和八面体配位(B3+?X)Oh，被广泛

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀

SEM：材料的表面形貌，形貌特征。配合EDX可以获得材料的元素组成信息TEM：材料的表面形貌，结晶性。配合EDX可以获得材料的元素组成FTIR：主要用于测试高分子有机材料，确定不同高分子键的存在，确定材料的结构。如单键，双键等等Raman：

热水有向上运动，冷却后从周围向下运动的自然循环方式。在冷水中的墨水仅仅依靠布朗运动来扩散，所以红墨水跟着这股水流的运动，和冷水中不一样功能不良真的是很多PCBA电子公司的痛，尤其现在的CPU几乎全都采用BGA封装，当有开机不良品从客户端退回

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀

烧结试样的 SEM 分析采用日本日立公司生产的 S-520 扫描电子显微镜完成。首先将试样的新鲜断裂面在 IB-3 离子溅射渡膜仪中喷渡厚度约为 10 ～20 nm 的金，对结构致密的部分试样断裂面采用 40%浓度的氢氟酸 ( HF) 侵蚀