sem和光刻机区别

sem和光刻机区别

二者之间结构差异主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜（TEM）的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁透镜继续放大电子光束，最后投影在荧光屏幕上扫描电镜（SEM）的样品在电子束末端，电子源在样品上方发射的电子束，经过几级电磁透镜缩小，到达样品。当然后续的信号探测处理系统的结构也会不同，但从基本物理原理上讲没什么实质性差别。

相同之处:都是电真空设备，使用绝大部分部件原理相同，例如电子枪，磁透镜，各种控制原理，消象散，合轴等等。

2、SEM和TEM基本工作原理：

透射电镜（TEM）:电子束在穿过样品时，会和样品中的原子发生散射，样品上某一点同时穿过的电子方向是不同，这样品上的这一点在物镜1-2倍焦距之间，这些电子通过过物镜放大后重新汇聚，形成该点一个放大的实像，这个和凸透镜成像原理相同。这里边有个反差形成机制理论比较深就不讲，但可以这么想象，如果样品内部是绝对均匀的物质，没有晶界，没有原子晶格结构，那么放大的图像也不会有任何反差，事实上这种物质不存在，所以才会有这种牛逼仪器存在的理由。经过物镜放大的像进一步经过几级中间磁透镜的放大（具体需要几级基本上是由电子束亮度决定的,如果亮度无限大，最终由阿贝瑞利的光学仪器分辨率公式决定)，最后投影在荧光屏上成像。由于透射电镜物镜焦距很短，也因此具有很小的像差系数，所以透射电镜具有非常高的空间分辨率，0.1-0.2nm，但景深比较小，对样品表面形貌不敏感，主要观察样品内部结构。

扫描电镜:电子束到达样品，激发样品中的二次电子，二次电子被探测器接收，通过信号处理并调制显示器上一个像素发光，由于电子束斑直径是纳米级别，而显示器的像素是100微米以上，这个100微米以上像素所发出的光，就代表样品上被电子束激发的区域所发出的光。实现样品上这个物点的放大。如果让电子束在样品的一定区域做光栅扫描，并且从几何排列上——对应调制显示器的像素的亮度，便实现这个样品区域的放大成像。具体图像反差形成机制不讲。由于扫描电镜所观察的样品表面很粗糙，一般要求较大工作距离，这就要求扫描电镜物镜的焦距比较长，相应的相差系数较大，造成最小束斑尺寸下的亮度限制，系统的空间分辨率—般比透射电镜低得多1-3纳米。但因为物镜焦距较长，图像景深比透射电镜高的多，主要用于样品表面形貌的观察，无法从表面揭示内部结构，除非破坏样品，例如聚焦离子束电子束扫描电镜FIB-SEM,可以层层观察内部结构。

透射电镜和扫描电镜二者成像原理上根本不同。透射电镜成像轰击在荧光屏上的电子是那些穿过样品的电子束中的电子，而扫描电镜成像的二次电子信号脉冲只作为传统CTR显示器上调制CRT三极电子枪栅极的信号而已。透射电镜我们可以说是看到了电子光成像，而扫描电镜根本无法用电子光路成像来想象。

铄思百检测SEM和TEM样品制备要求：

TEM测试对样品有以下几点要求：

① 粉末、液体样品均可，固体样品太大了的需要离子减薄、双喷、FIB、切片制样。

② 样品必须很薄，使电子束能够穿透，一般厚度为100~200nm左右

③ 样品需置于直径为2~3mm的铜制载网上，网上附有支持膜

④ 样品应有足够的强度和稳定性，在电子线照射下不至于损坏或发生变化

⑤ 样品及其周围应非常清洁，以免污染。

SEM测试对样品有以下几点要求：

① 粉末样＞0.02g；块状样和生物样，直径小于26mm，高度小于15mm

② 样品中不得含有水分；

③ 导电性差及磁性样品为保证拍摄效果，建议喷金

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光刻机巨头ASML称东方晶源可能侵权，这到底是怎么回事？下面就我们来针对这个问题进行一番探讨，希望这些内容能够帮到有需要的朋友们。

光刻机，作为处理芯片的关键生产设备，一直承重着必不可少的主要功效，而怎样摆脱外国垄断性，生产制造出彻底独立且有着专利权的光刻机及处理芯片，就变成了中国科技企业的总体目标。在“弯道超越”的途径上，也会没法规避的产生“专业知识行业时光交叠”的状况，终究在生产制造上，一切物件不太可能确保100%的原创设计，就连最主要的设备在功用上总会有互通点。

在光刻机大佬ASML阿斯麦的2021年财补报称，华企东方晶源已经市场销售很有可能侵害阿斯麦专利权的商品。这一举动造成网民的疑惑，请律师打官司呗，有一种把技术性都技术交底，看一下是不是侵权行为。

ASML阿斯麦在全世界供应链管理占有的影响力至关重要，针对全球来讲，ASML在光刻机及处理芯片行业一直是垄断性影响力，也是现阶段7nm及下列优秀制造必不可少的生产设备，只是交货55台光刻机就能完成销售总额46%的提高，而作为现阶段优秀制造市场竞争下，EUV的价格及销量一直不断提高，倘若有两部高档光刻机进到在我国，必定会更改中国现况（一台生产制造，一台拆卸科学研究）。就算是取决于ASML竭力抵制出入口限令，但仍更改不上没法向在我国出入口的现况。

而在这篇中的东方晶源，在应对ASML的“侵权行为举报”解决中，依然更改不上诸多人的眼光。ASML早已告知了许多顾客，要她们中止与其说的协作及业务流程来往：大家已经密切关注这一状况，并打算在恰当的情况下采用法律法规行动。就连外国媒体都没有忽略这一次机遇，在报道中阴阳怪气的控告华企“盗取国外企业的商业机密”，还主要的强调注重“尤其是美国”。

而且，ASML还表明，东方晶源与XTAL公司有关。XTAL此前在2019年因窃取商业秘密案获赔向ASML付款2.23亿美金，而XTAL在宣判起效的1个月后宣布破产。而东方晶圆在以后为什么会尽收眼底，在ASML来看，二者是有立即关联的，且在2021年7月6日，东方晶源在量子检测得到重大进展，第一台CD-SEM公布出机并得到中芯的订单信息，而后东方晶源就变成了ASML的立即竞争对手。

与东方晶源同样的是，XTAL也是由于创立一年后就占领了三星电子以内的好几家ASML的大顾客遭受“封禁”，尽管东方晶源仅建立于2014年，但在短期内得到变质，在ASML来看，这和XTAL是有联络的。现阶段，东方晶源仅回应称“彻底自研”，但针对实际关键点未做论述。

尽管ASML一而再再而三说抵制出入口限令，但这段时间或一直以来，针对华企的打击却不容易终止，这一点可以参考中微公司。ASML本次再度将大棒瞄向华企，用意是比较突出的。

光刻机巨头ASML称东方晶源可能侵权，中企对此作何回应？下面就我们来针对这个问题进行一番探讨，希望这些内容能够帮到有需要的朋友们。

荷兰光刻机大佬阿斯麦（ASML）声称，中国公司东方晶源（DongFangJingYuanElectron，DFJY）已经中国积极主动市场销售很有可能（couldpotentially）侵犯该公司专利权的商品。

阿斯麦还称，中国东方晶源与一家早已倒闭的美国公司XTAL存在关系，后面一种曾在2019年被美国法院曾判断侵害阿斯麦的专利权。阿斯麦称，早已告之顾客不必帮助中国东方晶源从业该类潜在性的侵权责任。阿斯麦还表露，该公司已向中国监督机构告知有关信息，已经紧密检测有关状况，并打算在恰当的机会采用法律行动。

对于此事，中国东方晶源的工作员称临时不方便回复这事。而阿斯麦中国层面称，这事与XTAL以前的侵权案相关，是年度报告中的一切正常公布。阿斯麦已经密切关注中国东方晶源的动态性，现阶段并未提前准备采用法律法规对策，但如果有确凿证据该公司将诉诸法律。

中国东方晶源官方网站消息表明，该公司全称之为中国东方晶源微电子科技（北京）有限公司创立于2014年，总公司坐落于北京亦庄经济技术开发区，是一家致力于集成电路合格率管理方法的公司。

从实际业务流程看来，中国东方晶源关键设备为纳米离子束视觉检测武器装备（EBI）和重要规格测量武器装备（CD-SEM）、测算光刻商品（OPC）及其电子光学设计方案与生产制造智能化合格率优化平台（HPOTM）。

中国东方晶源公司在官方网站称，其商品均为自主研发且处在中国领先地位，可以合理处理中国集成电路产业链好几个难题。该公司还提及，中国东方晶源自创立至今坚持不懈以引领发展趋势，申报世界各国专利发明145项，授权专利发明49项，手机软件着作权14项，商标注册15项。

2021年9月，中国东方晶源公布，该公司进行新一轮几亿元股权质押融资，这轮股权融资由赛领资本、深创投领投，诸多著名风险投资机构协同项目投资。“此次股权融资将有利于中国东方晶源加速在集成电路前道离子束检验、测算光刻系统软件等关键商品的产品研发过程，加快在集成电路合格率管理方法行业的总体合理布局。”

阿斯麦公布的财务报告表明，该公司2021年营业收入为186亿欧（折合RMB1339亿人民币），同比增加33%；纯利润为59亿欧（折合RMB425亿人民币），同比增加66%；毛利率是53%，比上年同期提升4个点。2021年，该公司共交货309台光刻机，比2020年空出51台；在其中极紫外光光刻机42台，比2020年多11台。

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