SiO2和Si3N4绝缘性能比较

sio2是原子晶体，是玻璃的主要成分.二氧化硅不能与水直接化合成为酸，能跟碱性氧化物或者强碱溶液或熔融状态下反应，常与naoh生成硅酸钠。sio2+naoh=na2sio3+h2o

sio2化学性质较为稳定。sio2还能与hf(氢氟酸）反应

sio2+4hf=sif4+2h2o

si3n4及活性炭黑为原料，按照两者质量比为31制成试样。在埋炭条件下，将试样分别在1480

℃、1500

℃、1550

℃和1600

℃保温3

h热处理。利用sem、eds及xrd等检测方法，结合热力学分析，研究了高温状态下β?si3n4在含碳耐火材料中的稳定性以及作为过渡相向碳化硅的转化。结果表明：在该试验条件下，β?si3n4在含碳材料中将作为过渡相向sic转化，明显的转化温度＞1500

℃，1600

℃仍存在较多未转化的氮化硅；氮化硅颗粒与炭黑的反应主要从接触面开始，然后向内逐步推进；β?si3n4的粒度对其转化率影响较大。

sio2当达到1873k时熔化也就是1599.85℃

si3n4当达到1000℃时熔化。

这个简单，不破坏样品可以做XRF，但一般的机构很难帮你准确测定，因为标准样品很贵，不是所有机构都有的。还可以用ICP-MS，样品前处理要经过溶解、定容等麻烦的过程，以免产生大的实验误差。如果不是要求很精确的话，可以测定XPS或者做SEM的EDS，缺点是精度不高。如果掺杂有硅，则比较复杂，需要更好的前处理，且要区别硅的价态。如果含有其它成分，如含硅酸钠，硅酸钙等，必须进行更长步骤的前处理。可以找浙大的哲博检测中心，对于未知物分析，成分检测很有经验。他们的前处理很到位。我有一个未知材料做催化剂的，就在他们那里分析出来的。

若某个试样中二氧化硅的含量在98%以上，应用氢氟酸挥发重量差减法（即挥散法）来测定SiO2含量。具体测定步骤如下：

将铂坩埚中测定过烧失量的试样，用少量水润湿，加入4～5滴硫酸及5～7mL氢氟酸，放在电炉上低温加热，挥发至近干时，取下放冷，再加2～3滴硫酸及3～4mL氢氟酸，继续加热挥发至干，然后升高温度，至三氧化硫白烟完全逸尽。将铂坩埚置于高温炉中，于950℃温度下灼烧30分钟，取出放在干燥器中冷至室温，称重。如此反复灼烧，直至恒重。

SiO2=×100

G1——测烧失量时灼烧后试样和坩埚的重量,g；

G2——残渣和坩埚的重量,g；

G——试样的重量，g；

若试样中SiO2含量在98%以下，采用上述方法测定SiO2将引起较大的误差。这种情况下，宜采用重量法或氟硅酸钾容量法来测定。

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