优光，鲸特，海罗黎哪个牌子好

鲸特好。

是由深圳市鲸特科技有限公司推出的国产车灯品牌，该公司拥有众多自主研发专利，是一家集研发销售于一体的创新型公司，产品品质高，性能好，深受广大国内消费者的喜爱和青睐。鲸特LED车灯均采用美国进口的灯丝，运用铝合金灯体和智能风扇的双重散热组合方式，主动散热效果更好，更节能，也增加了车灯的使用寿命。优光和海罗黎也不错，但还是鲸特好。

荷兰 18世纪：一切从灯泡开始 如同一名百岁人瑞一样，飞利浦已经足足跨越了三个世纪。这家世界闻名企业的历史可以追溯到1891年，荷兰机械工程师在荷兰Eindhoven的一个前鹿皮工厂开始生产碳灯丝光源。在他最早的主要客户中，有一些早期的电力公司，他们在自己的能量供应合同里包括了光源的提供。这些公司对产品质量提出了较高的标准，使得年轻的飞利浦一开始就在质量方面得到了严格的监控。 1908年是飞利浦进入世界市场的第一年，开始生产金属钨灯丝灯泡。1913年钨丝的充气“半瓦”灯投入市场，1915年的小一点“Arga”光源紧随其后，当时飞利浦的口号是“我们有适于每种应用的光源”。 1914年，公司建立了研究实验室,以研究物理、化学现象以促进产品创新。这可以称得上是它的产品创新的标志，因为紧接着第二年，飞利浦公司便壮大了自己的实力，业务拓展到了汽车车灯、探照灯、剧院照明灯等各种产品。到第一次世界大战以前，飞利浦先后进入了美国、法国市场，并于1919年进军比利时市场，到二十年代已经成为欧洲最有影响力的碳丝灯生产者之一。 从这个时代开始，飞利浦开始用专利权保护其发明创造，并吸纳X射线辐射和收音机做为公司新的奋斗领域，这标志着飞利浦的产品开始向多样化发展。1918年，飞利浦生产了其第一个医用X射线管。1925年，飞利浦步入电视开发的最初尝试。1927年，飞利浦开始生产收音机，仅仅一年之后，飞利浦不仅使收音机的产量达到了一亿台，而且在美国开始生产医用X射线设备从而进入了医疗器材领域。 20世纪：战后的“飞”速度 从十九世纪末到整个二十世纪，家用电器技术发生了翻天覆地的变化。到了四五十年代，家用电器已经成为人们不可缺少的生活必需品。直到1941年二战爆发，才减慢了产品研发和技术创新的步伐。幸亏战争结束后，整个欧洲的人们更加重视科学，更加珍惜来之不易的和平生活，飞利浦在二战后也将主要精力也投入到了更贴近人们生活的家用电器的开发。 60年代是全世界电视开始普及的时代，飞利浦参与了CCDs等重大发明。在电视画面的记忆、传输及再生技术的研发上，也有专门的研究。到1963年，飞利浦发明了袖珍式磁带放音机，使人们能更方便的收听广播节目，也为以后的WALKMAN袖珍电器的研制开启了思路。 时间进入20世纪七十年代，飞利浦激动人心的新产品和思想层出不穷，在照明技术方面的研究对新的PL、SL节能灯泡做出了贡献；在图像、声音、数据的生成、存储及传输方面的关键技术突破，导致镭射光盘及光通信系统的发明，并促成了Compact Disc子公司的成立。 到了八九十年代，飞利浦产品的开发朝着娱乐、生活、实用等多方面发展，飞利浦在80年代开始制造CD光碟，改变了人们听音乐的方式，并为以后的VCD、DVD的开发提供了思路。 到了世纪末，飞利浦将更多的精力投入到高科技、高尖端领域的产品。尤其是电脑芯片的研制成功，打破了其他公司在电脑领域的垄断地位。 21世纪：76,000项专利 今天，飞利浦的研究实验室已经成为世界上最重要的研究与开发机构之一。它在6个国家（荷兰，英格兰，法国，德国，中国和美国）设有实验室，并有约3,000名员工分布在世界各地。而飞利浦研究实验室的发明水平可以从袖珍光盘、CD-ROM 的普遍使用和DVD产品的迅速推出上反映出来。 从电子工程、物理、化学、数学、信息技术和软件，背景广泛的科学家们在飞利浦研究实验室里密切合作、彼此影响、拓宽思路，达到了优势互补的效果。同时也为这个团队朝着更加国际化的方向注入了活力。 今天在世界上大多数城市的街头都可以轻易看到PHILIPS的商标。 飞利浦研究实验室与其各产品部门紧密协作，开发新产品，改进现有产品，并在许多领域取得重要专利权。到今天为止飞利浦共有76,000项专利，它们保护了公司技术的技术成就，使飞利浦能够与其他公司交换技术成果。同时，飞利浦研究实验室也是外部科技的一个窗口。 当然，出于对市场的考虑，公司研究工作中约有三分之二配合飞利浦各产品部门活动开展。其余三分之一则是探索性研究工作为以后的工作提供了广阔的空间。从飞利浦研发部的成果达公司总销售额的7.3%左右就可以看出它对研究的重视。 回想当年荷兰菲利浦父子创建公司的时候，飞利浦只是一个小得不能再小的家族企业。不过机遇总是为有创造性的人们所发现，菲利浦父子敏锐地注意到全球灯泡需求量急速增长的情况并敏锐地捕捉到了这一商机。从灯泡到照明产品专家，然后是收音机和医疗器材，接着就是充满时代感的高科技产品。综观飞利浦的发展历史就像在看一部世界科技发展史，好的品牌总是与时俱进。就这样，在不断的创新中，一个世界性的品牌就悄悄诞生了

The newest in the Applied Materials VeritySEM product family, VeritySEM 5i CD-SEM system features first-of-its-kind, in-line, 3D capabilities for high-volume metrology of logic and memory devices at the 1xnm node and beyond. Leveraging market-leading SEMVision® G6 core technology, the new system addresses the unprecedented challenges in measuring physical dimensions posed by leading-edge geometries. Its state-of-the-art, high-resolution SEM column makes possible measurements as small as 6nminnovative image enhancement algorithms aid measurement of fine pattern details. An in-column tilt-beam enables 3D FinFET metrology, while back-scattered electron (BSE) metrology addresses high aspect ratio 3D NAND structures, and BEOL via-in-trench bottom CD and characterization metrology.

FinFETs challenge traditional metrology in such measurements as gate and fin heights, whose uniformity is critical to device performance and yield. Current in-line CD SEM technology can monitor only top-view dimension variations, not those in height and slope. The VeritySEM 5i system’s in-column beam tilt remedies these issues, enabling gate and fin heights to be calculated and controlled.As technology scales down, the aspect ratios of 3D NAND memory structures are increasing to 60:1 and beyond, making accurate measurement of the bottom CD impossible using conventional metrology. High-resolution BSE imaging enhances the signal received from within these structures, allowing the VeritySEM 5i system to “see” deep into vias and trenches for precision measurement. This capability also improves metrology for via-in-trench bottom CD in BEOL processing where the desired connectivity between underlying and overlaying metal layers must be achieved to minimize via resistance.

The VeritySEM 5i system’s exceptional in-line accuracy and process control eliminate more time-consuming and costly off-line wafer cross-sectioning while helping chipmakers to streamline process development, improve device performance and yield, and shorten ramp times to high-volume production.

The VeritySEM 5i system continues to offer hands free recipe creation and full automation. An offline recipe generator (ORG) features recipe editing capabilities via an external server, enabling multiple users to create recipes from computer-aided design offline without the need for wafers. The recipes are automatically stored in the tool database. By eliminating recipe creation time loss, the ORG enables the user to maximize the tool's utilization in production.

The tool's OPC|CheckMax is a proven solution for automating the optical proximity correction (OPC) mask qualification process. As scaling proceeds below 32nm, OPC-enhanced features are commonly incorporated into mask designs for all layers. Hundreds of CD measurements are required to verify that the features printed on the wafer are indeed what the device designers intended to produce. With a suite of proprietary algorithms, OPC|CheckMax receives input from electronic design automation systems, automatically creates CD-SEM measurement recipes, and then directs the VeritySEM 5i system to measure thousands of sites at high throughput without operator assistance.

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