使用扫描隧道显微镜STM和分子吸附辅助原子力显微镜AFM的确是可以基本上达到原子量级的分辨率没有问题.不过有一点就是电子显微镜,一般而言电子显微镜的是使用electron beam 来进行成像的手段,主要也就是TEM和SEM两大种,当然还有就是这两种设备的一些辅助功能,诸如高分辨的TEM和Stem.不知提问是想知道不论任何方式能够看到羟基和羧基就可以,还是需要用 电子显微镜 这种手段来进行分析.
扫描隧道显微镜和原子力显微镜都是利用距离跟进,一个产生隧穿电流,一个是范德瓦耳斯力,而直接相当于描出表面的形貌.
但对于电子显微镜,首先对于SEM,也就是扫描电子显微镜而言,是必然无法看到羟基和羧基的,甚至是连大分子都无法看到.如果不去考虑研究晶体取向的问题的话,可以吧扫描电镜看成是一个牛逼的放大镜,传说最牛逼的分辨率能到0.8nm,但是一般情况能达到1.5nm的个人感觉就挺牛逼了.对于TEM,目前想要高分辨率就一般是使用HRTEM,也就是好点的透射电镜的高分辨功能了.但是高分辨功能是通过电子衍射成像,也就是呈现一个格子像。
SEM全称是扫描电子显微镜。一般常用微观形貌观测模式。电流大小是由电流密度和镀件面积决定的,电流密度是由各电镀工艺决定的。那么,知道了这几个条件怎样计算镀层厚度或者时间呢?首先要了解电化当量的概念,所谓电化当量,就是单位电流和单位时间内能够镀出的金属的质量(重量),电镀常用的电化当量单位是克/安培小时,不同的金属有不同的电化当量,可以查相关资料得到,也可以自己计算出来,计算方法是金属的克当量(就是金属的原子量除以它的价数)除以26.8。
比如,镍的原子量是58.69,价数是2,它的克当量就是58.69/2=29.35,它的电化当量就是29.35/26.8=1.095(克/安培小时)。怎样由电化当量计算镀层厚度呢?举个例子,比如镀镍,已知电化当量是1.095克/安培小时,假定给的电流密度是3A/平方分米,那么1平方分米面积,镀1小时,就是3安培小时,就会镀出1.095乘以3,等于3.225克镍,这么多的镍分布在1平方分米的面积上,镍的密度(比重)是8.9,不难算出镀层厚度是3.6丝,考虑到电流效率不是100%,镀镍电流效率一般为95%,修正后镀层厚度就是3.6乘以0.95=3.4丝。
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