【求助】纳米薄膜制备与材料表征需要什么仪器设备

【求助】纳米薄膜制备与材料表征需要什么仪器设备,第1张

请问现在世界上最好纳米薄膜制备与材料表征需要什么仪器设备,分别是哪个国家哪个公司的最好?本人对纳米薄膜的制备及表征不是很懂,希望路过的人给你帮助,我再做细致的调研,越详细越好,越多越好。 如果制备的话,很多用MBE或者MOCVD吧,表征的话可以用SEM,AFM,XRD,XPS等等,你得看你具体的样品,xuejiang(站内联系TA)长春应用化学研究所有人在做纳米薄膜,你可以问一下,制备仪器不算贵。表征的话就用SEM,tem,xrd等。汉王重出江湖(站内联系TA)磁控溅射仪,AFM,XRD,XPSlff0432(站内联系TA)“最好的”需要很多钱,比如很好的XPS和AFM请问现在世界上最好纳米薄膜制备与材料表征需要什么仪器设备,分别是哪个国家哪个公司的最好?本人对纳米薄膜的制备及表征不是很懂,希望路过的人给你帮助,我再做细致的调研,越详细越好,越多越好。 等待高手回答ylkbyd007(站内联系TA)可以用MBE 磁控溅射、LB拉膜机、真空蒸镀。表征 可以用 AFM XRD TEM SEMpaperhunter(站内联系TA)NOVA系列全自动比表面和孔径分布分析仪纳米粒度仪(Dylisizer-2)cai_yuanyuan(站内联系TA)可以用MBE 磁控溅射、LB拉膜机、真空蒸镀。表征 可以用 AFM XRD TEM SEM贝壳摩尔(站内联系TA)低角度X射线衍射及X射线反射率测量!mengyonghong(站内联系TA)表征纳米薄膜层构参数和光学参数,最长用的是椭偏仪,包括:光谱椭偏仪、激光椭偏仪,还有专门用于过程监控的在线椭偏仪。国外厂家:美国1家、德国1家、法国2家(分别被日本和匈牙利收购了);国内厂家:1个专业椭偏仪器厂家(北京量拓),以及几个有椭偏仪的厂家竹林风bamboo(站内联系TA)一般做出来后,XRD,SEM(表面和截面)这些是必须的。XRD可以分析结构相,有人根据XRDd 三强峰来计算晶粒大小,我觉得这个不可靠,薄膜受基底影响,峰位和峰强都会有一定的改变的。表面SEM分析表面形貌,看是否有微裂纹(这个对纳米薄膜来说很重要,有微裂纹的薄膜基本上是失败了),晶粒大小与均匀度,表面粗糙度等等。还有很重要的是截面SEM,这个对纳米薄膜的表征是必须的。要说明你做的是纳米薄膜,就必须提供薄膜的厚度,以及薄膜与基底的结合情况。。。

SEM描电镜主要应用于微观形貌、颗粒尺寸、微区组成、元素分布、元素价态和化学键、晶体结构、相组成、结构缺陷、晶界结构和组成等。SEM一般通过搭配能谱仪EDS使用,可利用EDS进行元素成分定性、定量分析。用来观测芯片内部层次和测量各层厚度、观测并拍摄局部异常照片和测量异常尺寸、测量芯片关键尺寸线宽和孔径、定性和定量分析异常污 染物的化学元素组成。

这些方法包括气体吸附法、压汞法、电子显微镜法(SEM 或 TEM)、小角 X 光散射(SAXS)和小角中子散射(SANS)等。2010年,美国分散技术公司(DT)和美国康塔仪器公司还联合开发了电声电振法,比利时 Occhio 公司开发了图像法大孔分析技术。总体来说,每种方法都在孔径分析方面有其应用的局限性。

纵观各种孔径表征的不同方法,气体吸附法是最普遍的方法,因为其孔径测量范围从0.35nm到100nm以上,涵盖了全部微孔和介孔,甚至延伸到大孔。另外,气体吸附技术相对于其它方法,容易操作,成本较低。如果气体吸附法结合压汞法,则孔径分析范围就可以覆盖从大约0.35nm到1mm的范围。气体吸附法也是测量所有表面的最佳方法,包括不规则的表面和开孔内部的面积。


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