如何提高介孔二氧化硅纳米颗粒的可降解性能

用氢氟酸除二氧化硅并不难,要点是浓度合适,温度80-85度搅拌速度合适,反应时间四个小时左右,容器必须开口,要注意防止溢锅也要注意通风

如果是用焙烧的方法去除CTAB，我们一般用称重的方法，隔一段时间称一下，烧至恒重，就说明可烧去的CTAB已经除干净了。或者有经验的话，看看颜色已经纯白就行了。CTAB燃烧产生的残碳会显黄色，纯白说明残碳也除净了。 我们用的是30%氢氟酸，在超声环境下对样品进行腐蚀。在这种条件下需要将容器封口，因为30%氢氟酸浓度是比较高的，挥发性较强。

钾盐应该是你们采样水中含有的，钾盐不会导致结垢。

硅结垢就是二氧化硅形成的结晶，钙可能是碳酸钙沉积、氟化钙结垢，也可能是硫酸钙结晶。

从此状况分析应该是以二氧化硅结晶体为主，碳酸钙沉积次之。当然水中硫酸根很高的话也可能会是硫酸钙结晶。

如果是陶氏膜的话，建议先pH13下碱洗，再pH1或者2下酸洗。

如果其他厂家的膜，请参阅厂家手册确定清洗允许的pH。

纯净的硅(Si)是从自然界中的石英矿石(主要成分二氧化硅)中提取出来的,分几步反应:

1.二氧化硅和炭粉在高温条件下反应,生成粗硅:

SiO2+2C==Si(粗)+2CO

2.粗硅和氯气在高温条件下反应生成氯化硅:

Si(粗)+2Cl2==SiCl4

3.氯化硅和氢气在高温条件下反应得到纯净硅:

SiCl4+2H2==Si(纯)+4HCl

以上是硅的工业制法,在实验室中可以用以下方法制得较纯的硅:

1.将细砂粉(SiO2)和镁粉混合加热,制得粗硅:

SiO2+2Mg==2MgO+Si(粗)

2.这些粗硅中往往含有镁,氧化镁和硅化镁,这些杂质可以用盐酸除去:

Mg+2HCl==MgCl2+H2

MgO+2HCl==MgCl2+H2O

Mg2Si+4HCl==2MgCl2+SiH4

3.过滤,滤渣即为纯硅

---