SEM扫描电镜图怎么看,图上各参数都代表什么意思

SEM扫描电镜图怎么看,图上各参数都代表什么意思,第1张

1、放大率:

与普通光学显微镜不同,在SEM中,是通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率,只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到。

所以,SEM中,透镜与放大率无关。

2、场深:

在SEM中,位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。这一小层的厚度称为场深,通常为几纳米厚,所以,SEM可以用于纳米级样品的三维成像。

3、作用体积:

电子束不仅仅与样品表层原子发生作用,它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用,所以存在一个作用“体积”。

4、工作距离:

工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离。

如果增加工作距离,可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。如果减少工作距离,则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。

5、成象:

次级电子和背散射电子可以用于成象,但后者不如前者,所以通常使用次级电子。

6、表面分析:

欧革电子、特征X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关,所以可以用于成分分析。但由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层(参见作用体积),所以只能用于表面分析。

表面分析以特征X射线分析最常用,所用到的探测器有两种:能谱分析仪与波谱分析仪。前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素”的存在但耗时太长。

观察方法:

如果图像是规则的(具螺旋对称的活体高分子物质或结晶),则将电镜像放在光衍射计上可容易地观察图像的平行周期性。

尤其用光过滤法,即只留衍射像上有周期性的衍射斑,将其他部分遮蔽使重新衍射,则会得到背景干扰少的鲜明图像。

扩展资料:

SEM扫描电镜图的分析方法:

从干扰严重的电镜照片中找出真实图像的方法。在电镜照片中,有时因为背景干扰严重,只用肉眼观察不能判断出目的物的图像。

图像与其衍射像之间存在着数学的傅立叶变换关系,所以将电镜像用光度计扫描,使各点的浓淡数值化,将之进行傅立叶变换,便可求出衍射像〔衍射斑的强度(振幅的2乘)和其相位〕。

将其相位与从电子衍射或X射线衍射强度所得的振幅组合起来进行傅立叶变换,则会得到更鲜明的图像。此法对属于活体膜之一的紫膜等一些由二维结晶所成的材料特别适用。

扫描电镜从原理上讲就是利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描,激发出各种物理信息。通过对这些信息的接受、放大和显示成像,获得测试试样表面形貌的观察。

参考资料:百度百科-扫描电子显微镜

铜箔分电解铜箔和压延铜箔两种:

电解铜箔是在阴极(辊)和阳极(板)之间通直流电(3万—5万安培不等),在阴极辊上沉积并剥离而成的带状铜箔。电解铜箔的厚度由电流大小和阴极辊转动快慢进行调整。一般地,电解铜箔根据用途分为标准铜箔和锂电铜箔。标准铜箔一般较厚:12微米以上,一面粗糙一面光亮,主要用于覆铜板、印刷线路板、屏蔽等方面。锂电铜箔一般要薄一些:大多12微米以下,且多为双面光,也有用单面毛、双面毛的,主要用于锂电池负极集流体。

压延铜箔是指将铜坯经轧制辊多次轧制后达到要求厚度的带状铜箔,大多为12-100微米,再厚就是铜板带,10微米一下甚至6微米的也有一定量的生产。压延铜箔生产出来后为双面光,主要用于变压器、FPC、锂电池等。现在也有用压延铜箔经表面处理生产一光一毛、双面毛的压延铜箔。直接轧制的压延铜箔一般为硬态,延伸率在1-2%左右,经退货后成为软态压延铜箔,延伸率可以达到5%以上。

电解铜箔生产工序简单,主要工序有三道:溶液生箔、表面处理和产品分切。其生产过程看 似简单,却是集电子、机械、电化学为一体,并 且是对生产环境要求特别严格的一个生产过程。所以,到现在为止电解铜箔行业并没有一套标准通用的生产设备和技术,各生产商各显神通,这也是影响目前国内电解铜箔产能及品质提升的一个重要瓶颈。 随着市场进一步的竞争,哪怕是高附价值的电解铜箔也不得不从生产成本着手进行控制。由于生产电解铜箔对其电解溶液( 硫酸铜溶液) 的洁净度要求非常严格,所以在以往的生产工艺中重复使用许多过滤系统和上液泵。在这里提供一套新的工艺流程见图2 ,可从根本上控制产品质量 和减少生产成本。

图2 的工艺流程特点:

( 1 ) 一台上液泵,根据不同的位差进行 自动控制,即可溶铜又可生产毛箔, 生产成本可大大降低。

( 2 ) 涂覆过滤材料简单,可操作性强。过滤精度可达到 0.2 微米。

( 3 ) 总的溶液体积减少, 容易控制生产工艺参数。 主盐铜含量可控制在±lg/L, 也可方便采用在线去除杂质。

( 4 ) 可减少劳动强度,自动化程度高, 溶铜能力可根据在线检测自动调节阀门( 溶液回流阀或风量) 进行控制。 电解铜箔毛箔产品质量的好坏及稳定性,主要取决于添加剂的配方和添加方法。目前电解铜箔添加剂的配方很多,不同的配方可以调整出不同的产品晶粒结构,主要有)以日本三井公司为代表的一次性过滤材料的投加,以美国叶茨公司为代表的适量均匀投加。

以日本三井公司为代表的投加方法,吸附材料为一次性投加,在生产开始一段过程中需要较长时间稳定期的寻找,并且其添加剂的添加量与吸附量也不是恒定的,比较难控制。而以美国叶茨公司为代表的添加方法比较稳定, 在生产过程中采用连续滴加与勤加的方法同时投加添加剂和吸附材料,无论生产机组怎样变化,都容易找到其添加量的比值。 在溶铜生箔段,除了上述比较重要工艺控制外,要生产出高质量的毛箔还与阴极辊表面材质、电流密度、溶液中杂质含量、添加剂成分以及溶 液中氯离子含量等有关,在此不作详细介绍。

近年,国家政策和RoHs指令将一定程度上影响铜箔工艺。欧盟的RoHS指令的全称是“电气电子设备中限制使用某些有害物质指令”。该指令要求2006年7月1日以后新投放欧盟市场的机电产品中,6种有害物质即铅、镉、汞、六价铬、多溴联苯和多溴二苯醚的含量不能超过RoHS指令规定的最高限量(镉为0.01%,其余5种均为0.1%)。各个铜箔厂家必须按照RoHs指令适当修改相应工艺,否则难以出口和销往台资企业。


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