tbaf脱三甲基硅的机理

tbaf脱三甲基硅的机理,第1张

机理是在有机合成中,三甲基(甲)硅基可以用做烃基的保护基。先使烃基和三甲基氯(甲)硅烷反应生成二甲基(甲)硅醚该醚在碱性条件下稳定,可以进行所需反应,反应后再在酸性条件下水解。发生脱甲硅基反应,恢复原来的轻基。

用TBAF会残留一些丁基不好除去,可以试一下CF3COOH/DCM,V/V=1:10,然后用K2CO3/EtOH室温2h就可以了.

CF3COOH/DCM:叔丁基醚 一般用异丁烯在酸催化下于DCM中进行,替代试剂有tBuo-C(=NH)CCl3/BF3/DCM。但烷基锂和 Grignard试剂在高温下进攻破坏。其去除要用中等强度酸,如:HCOOH、


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