献峰科技指出:在Si片上镀一层非晶碳膜(厚度为几十个nm,导电性能较差),用金刚石刀直接切割出试样,然后进行SEM观察,希望得到薄膜的厚度。
第一次去做时表面没有喷金,看到的断面效果也很差,很难清楚的看到薄膜与基体的分界面。
希 望 采 纳 不 足 可 追 问
硼掺杂金刚石(Boron doped diamond,简称BDD)的特点有:良导电性、宽电化学窗口、微背景电流、高化学稳定性以及在电解水处理领域有广阔的应用前景。BDD电极的测试研究,选择广州石化废水作为处理的应用废水进行试验研究,较系统地研究了Ni/BDD膜电极的电化学性能和表征特性,
同时对石化废水的处理条件进行调试研究。
所完成的主要研究工作和取得的成果如下;
: 1.阐述了掺硼金刚石膜电极(BDD)在电化学方面的应用及电化学氧化机理。
同时,采用SEM方法等电化学研究手段对含铌掺硼金刚石膜电极生长特性进行表征,图像表明:适量的硼掺杂有利于提高金刚石膜品质。
2.用CV(循环伏安法)测试了含Nb掺硼金刚石膜电极(Nb/BDD)的电化学性质(电势窗口和背景电流),同时也对含Nb掺硼金刚石膜电极(Nb/BDD)的可逆性和氧化性进行了分析。
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