水滑石合成方法和步骤按镁离子：铝离子配方比在4：1到1：1的范围内，依一定比例称取 Mg(NO3)26H2O ([Mg2=0.06 molL.NaALO2，分别用去离子水溶解配制成溶液。 依[OH-]=0.025 molL, [C03

类水化合物和水滑石这两种物质都有着特殊的化学物理性质和层状结构，而其中水滑石的材料是属于阴离子型层状化合物。层状机构和层间离子这两种化合物有着可交换性，水滑石类化合物的孔径可调整改变，并且拥有着一种极其容易吸附的催化功能，不论是在催化方面还

水滑石合成方法和步骤按镁离子：铝离子配方比在4：1到1：1的范围内，依一定比例称取 Mg(NO3)26H2O ([Mg2=0.06 molL.NaALO2，分别用去离子水溶解配制成溶液。 依[OH-]=0.025 molL, [C03

镁铝类水滑石兼具了氢氧化铝和氢氧化镁阻燃剂的优点，又克服了它们各自的不足，具有阻燃、消烟、填充功能，是一种高效、无卤、无毒、低烟的新型阻燃剂[10~13]。镁铝类水滑石阻燃剂的工业化生产和应用已引起国内外的关注。本文通过共沉淀法合成的镁铝类

粉末X射线衍射（XRD）是最常用的表征方法之一。考察LDHs插层组装体的(003)衍射峰位置是否相对于层间为无机阴离子LDHs的(003)衍射峰位置向低衍射角度方向发生位移，通常是判断有机分子或离子是否插入层状主体层间形成超分子结构插层产物

镁铝类水滑石兼具了氢氧化铝和氢氧化镁阻燃剂的优点，又克服了它们各自的不足，具有阻燃、消烟、填充功能，是一种高效、无卤、无毒、低烟的新型阻燃剂[10~13]。镁铝类水滑石阻燃剂的工业化生产和应用已引起国内外的关注。本文通过共沉淀法合成的镁铝类

镁铝类水滑石兼具了氢氧化铝和氢氧化镁阻燃剂的优点，又克服了它们各自的不足，具有阻燃、消烟、填充功能，是一种高效、无卤、无毒、低烟的新型阻燃剂[10~13]。镁铝类水滑石阻燃剂的工业化生产和应用已引起国内外的关注。本文通过共沉淀法合成的镁铝类

类水化合物和水滑石这两种物质都有着特殊的化学物理性质和层状结构，而其中水滑石的材料是属于阴离子型层状化合物。层状机构和层间离子这两种化合物有着可交换性，水滑石类化合物的孔径可调整改变，并且拥有着一种极其容易吸附的催化功能，不论是在催化方面还

由方程式：2Mg2Al（OH）6Cl?xH2O高温 .4MgO+Al2O3+2HCl+（5+2X）H2O                                                    73    90+36X   

由方程式：2Mg2Al（OH）6Cl?xH2O高温 .4MgO+Al2O3+2HCl+（5+2X）H2O                                                    73    90+36X   

水滑石的阻燃性能水滑石在受热时，其结构水合层板羟基及层间离子以水和CO2的形式脱出，起到降低燃烧气体浓度，阻隔O2的阻燃作用；水滑石的结构水，层板羟基以及层间离子在不同的温度内脱离层板，从而可在较低的范围内（200~800℃）释放阻燃物质

水滑石的阻燃性能水滑石在受热时，其结构水合层板羟基及层间离子以水和CO2的形式脱出，起到降低燃烧气体浓度，阻隔O2的阻燃作用；水滑石的结构水，层板羟基以及层间离子在不同的温度内脱离层板，从而可在较低的范围内（200~800℃）释放阻燃物质

镁铝类水滑石兼具了氢氧化铝和氢氧化镁阻燃剂的优点，又克服了它们各自的不足，具有阻燃、消烟、填充功能，是一种高效、无卤、无毒、低烟的新型阻燃剂[10~13]。镁铝类水滑石阻燃剂的工业化生产和应用已引起国内外的关注。本文通过共沉淀法合成的镁铝类

镁铝类水滑石兼具了氢氧化铝和氢氧化镁阻燃剂的优点，又克服了它们各自的不足，具有阻燃、消烟、填充功能，是一种高效、无卤、无毒、低烟的新型阻燃剂[10~13]。镁铝类水滑石阻燃剂的工业化生产和应用已引起国内外的关注。本文通过共沉淀法合成的镁铝类

( 1) 粉煤灰的除杂质效果高铝粉煤灰经 800℃ ×2 h 除碳，粉煤灰的烧失量由原来的 2. 10% 降至 1. 02%，除碳效果明显。除碳前、后粉煤灰粒度变化不大 ( 图 6. 5) ，说明粉煤灰中的炭粒与无机颗粒大小相近，分布一致

( 1) 粉煤灰的除杂质效果高铝粉煤灰经 800℃ ×2 h 除碳，粉煤灰的烧失量由原来的 2. 10% 降至 1. 02%，除碳效果明显。除碳前、后粉煤灰粒度变化不大 ( 图 6. 5) ，说明粉煤灰中的炭粒与无机颗粒大小相近，分布一致

粉末X射线衍射（XRD）是最常用的表征方法之一。考察LDHs插层组装体的(003)衍射峰位置是否相对于层间为无机阴离子LDHs的(003)衍射峰位置向低衍射角度方向发生位移，通常是判断有机分子或离子是否插入层状主体层间形成超分子结构插层产物

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粉末X射线衍射（XRD）是最常用的表征方法之一。考察LDHs插层组装体的(003)衍射峰位置是否相对于层间为无机阴离子LDHs的(003)衍射峰位置向低衍射角度方向发生位移，通常是判断有机分子或离子是否插入层状主体层间形成超分子结构插层产物