化学物质
二氧化铪是一种无机物,化学式为HfO2,是铪元素的一种氧化物,常温常压下为白色固体,难溶于水,不溶于盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氢氟酸。
中文名
二氧化铪
外文名
Hafnium(IV) oxide
别名
氧化铪(IV)
化学式
HfO2
分子量
210.49
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化学上的氧化物
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三氧化二镍
氧化高镍(nickelic oxide),是一种无机化合物,化学式Ni2O3,为灰黑色粉末,不溶于水,溶于硫酸和硝酸并放出氧气,溶于热盐酸并放出氯气,主要用作陶瓷、玻璃、搪瓷的着色颜料,也可用于镍粉的制造及磁性体的研究。2017年10月27日,世界卫生组织国际癌症研究机构公布的致癌物清单初步整理参考,镍化合物在1类致癌物清单中。
氧化锶
氧化锶,化学式SrO。是一种氧化物,可由分解碳酸锶或氢氧化锶而制得,遇水变成氢氧化锶并放热。有腐蚀性。
七氧化二锝
七氧化二锝,英文名Technetium(Ⅶ) oxide,化学式Tc₂O₇,其他名称:氧化锝、氧化锝(Ⅶ)、高锝(酸)酐,外观:黄色固体,熔点:119.5℃,沸点:310.6℃。溶于水中后形成高锝酸。七氧化二锝是锝最常见的氧化物,呈黄色。七氧化二锝和一般的金属氧化物不同。一般的金属氧化物若能溶于水,会呈碱性。但七氧化二锝溶于水后会形成高锝酸,呈酸性,这点和其他的金属氧化物不同。有此类似性质的还有七氧化二铼等。
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基本信息性质应用TA说
基本信息
IUPAC 名称:dioxohafnium
元素含量比重:O (oxygen) 15.2% 、Hf (hafnium) 84.8%
二氧化铪 分子结构
光学镀膜技术和应用始于19 世纪在20世纪的后50年内,光学镀膜技术得到飞速发展。镀膜的方法有很多种,其中一种就是脉冲激光沉积(PLD) 方法,它是利用激光将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者PLD作为一种新的先进的成膜技术。与其他工艺相比,生长参数独立可调、可精确控易于实现超薄薄膜的生长和多层膜的制备,生长的薄膜结晶性能很好,膜的PLD技术的成膜效率高,能够进行批量生产,这是它的很大的优势,有望在科研和生产中得到广泛的应用。但是由于等离子体存在中的微粒沉积到薄膜上会降低薄膜的质量,采取相应的措施后可以获得改善,但不能完全消除。PLD方法在厚度均匀等方面也比较困难,从而比较难以进一步提高薄膜的质量。
光学镀膜技术可以应用于制备高阈值激光薄膜领域,高功率激光器是当前强激光领域的研究热点,影响激光系统的功率输出最关键的因素是光学薄膜的激光损伤阈值(LIDT)。影响LIDT的主要因素包括: 高低折射率材料的选择和匹配、镀膜工艺过程和薄膜质量。可以说,性能优异的镀膜材料是得到高LIDT激光薄膜的前提。LIDT激光膜常见镀膜材料是二氧化锆和二氧化铪。
二氧化锆在( ~300nm) 到红外( ~1300nm) 对光不吸收,膜层致密牢固,与SiO2 膜层的匹配性好,但氧化锆最大的缺点是镀膜时不易控制,容易产生喷溅。在制备近紫外( 300nm~和红外( 1064nm) 高LIDT 激光薄膜中得到应用。
二氧化铪光学镀膜材料是一种性能优异的高折射率材料,其透射波段范围包括远紫外(200nm)~到红外( 8000nm) ,在此波段范围内,光吸收、散射都极少,其折射率在波长500nm处为2.0。用电子枪蒸发可以得到致密的氧化铪膜层,该膜层硬度高;与石英玻璃、CaF2 薄膜基底具有较强的附着力,化学物理性能稳定、耐腐蚀性好。HfO2光学镀膜材料是一种性能优异的制备具高LIDT 激光膜的材料。但在自然界,Zr 与Hf 伴生,两者的化学性能非常接近,它们之化学性能非常接近,他们之间的深度分离一直是技术难题。在紫外波段,Zr 的存在严重影响薄膜的性能。从光学性能
二氧化锆的透射波段不能到250nm 以下,在250nm以下紫外波段有明显吸收,而且在此波段,二者折射率相差较大( HfO2 的折射率是1. 95,ZrO2的折射率是2. 04);另外,两SiO2的匹配作用相反,因此氧化锆的存在破坏膜层的性能。从物理化学性能看,HfO2比ZrO2稳定得多。通常情况下,不含稳定剂的纯ZrO2热力学不稳定,在摩擦、受热、压力等条件下容易发生相变,相变的同时伴随体积的变化。因此低ZrO2含量HfO2膜料是制备具有高LIDT的紫外强激光薄膜的关键。
二氧化硅和二氧化铪的弹性模量和泊松比,热膨胀系数是多少碳钢的弹性模量:E=206GPa;碳钢的泊松比:μ=0.3;
碳钢的线膨胀系数αl*10-6(1/℃):温度为20~100℃时,系数为10.12.2;温度为20~200℃时,系数为11.13;温度为20~300℃时,系数为12.13.5;
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