• 为何说刻蚀工艺在微加工工艺中是必不可少的步骤?

    目前越来越多的微加工中材料多为硅、石英等,硬度高、不导电,性脆,导致普通的机械加工无能为力,只能采用光刻、超声波、激光等手段来加工,但成本最低、工艺简单、应力最小的还属腐蚀工艺。刻蚀工艺;把未被抗蚀剂掩蔽的薄膜层除去,从而在薄膜上得到与抗蚀

    2023-5-11
    4200
  • 干法和湿法的优缺点????

    干法和湿法使用的理论依据不同:1、干法:硅胶内部的孔径是干的,不能利用内部的表面积,所以负载量较小,需要材料较多2、湿法:硅胶内部的孔径是湿的,可以充分利用内部的表面积,所以负载量较大,节省材料在实际应用中:1、干法装柱快,但是细硅胶上柱时

    2023-5-11
    4500
  • 干法和湿法的优缺点????

    干法和湿法使用的理论依据不同:1、干法:硅胶内部的孔径是干的,不能利用内部的表面积,所以负载量较小,需要材料较多2、湿法:硅胶内部的孔径是湿的,可以充分利用内部的表面积,所以负载量较大,节省材料在实际应用中:1、干法装柱快,但是细硅胶上柱时

    2023-5-11
    4700
  • SEM用硅片含有氧元素吗

    为了阐明蚀刻残留物的形成机理,研究了氯氦-氧、溴化氢氦-氧和溴化氢氯等不同气体混合物的影响,我们发现,在氧的存在下,蚀刻残留物形成良好,这表明蚀刻残留物是由氧和非挥发性卤化硅化合物的反应引起的,湿法清洗和干法蚀刻清洗工艺被用于去除多晶

    2023-5-11
    4100
  • SEM用硅片含有氧元素吗

    为了阐明蚀刻残留物的形成机理,研究了氯氦-氧、溴化氢氦-氧和溴化氢氯等不同气体混合物的影响,我们发现,在氧的存在下,蚀刻残留物形成良好,这表明蚀刻残留物是由氧和非挥发性卤化硅化合物的反应引起的,湿法清洗和干法蚀刻清洗工艺被用于去除多晶

    2023-5-9
    3800
  • 粉未赤铁矿最好还原焙烧温度和时间

    粉未赤铁矿最好还原焙烧温度和时间如下:1、焙烧还原温度440℃。2、还原时间是75min。抗压强度可达1000N左右。赤铁矿是氧化铁的主要矿物形式,铁主要由赤铁矿冶炼而成。赤铁矿是氧化铁,它是沉重和硬。赤铁矿含铁量高达70%。得。 铜的冶炼

    2023-5-4
    9600
  • 为何说刻蚀工艺在微加工工艺中是必不可少的步骤?

    目前越来越多的微加工中材料多为硅、石英等,硬度高、不导电,性脆,导致普通的机械加工无能为力,只能采用光刻、超声波、激光等手段来加工,但成本最低、工艺简单、应力最小的还属腐蚀工艺。刻蚀工艺;把未被抗蚀剂掩蔽的薄膜层除去,从而在薄膜上得到与抗蚀

    2023-5-3
    3900
  • 2020-02-08-2小刘科研笔记之FIB-SEM双束系统在材料研究中的应用

    聚焦离子束扫描电镜双束系统(FIB-SEM)是在SEM的基础上增加了聚焦离子束镜筒的双束系统,同时具备微纳加工和成像的功能,广泛应用于科学研究和半导体芯片研发等多个领域。本文记录一下FIB-SEM在材料研究中的应用。以目前实验室配有

    2023-4-29
    2700
  • 关于SEM扫描电镜的几个问题,求大神出现...

    如果是即将开始学习仪器操作的管理人员,建议先系统学习理论知识,再找专业的仪器工程师培训。如果是学生,要使用电镜,从安全角度考虑,1、2、3几项通常是值机人员完成的。我可以简单的向你介绍一下:1、主要是电源,只要能正常开机,一般无问题;2、加

    2023-4-28
    5200
  • 测sem时的硅片的作用

    检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜。扫描电镜SEM是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。测sem时的硅片的作用检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜,硅片是生产集成电路、分立器件、传感器

    2023-4-26
    4400
  • sem硅片有正反面吗

    有。硅片一般分正面和背面,正面印正银,背面印背银和背铝,烘干烧结后可以使用并测试。光伏用的硅片表面不能有线痕,这种工艺在切割时就定型,用途太阳能发电。而半导体硅片在切割时,硅片两面都有线痕,经抛光研磨后成晶圆,再上光刻胶。很多纳米管、线等都

    2023-4-26
    5800
  • SEM用硅片含有氧元素吗

    为了阐明蚀刻残留物的形成机理,研究了氯氦-氧、溴化氢氦-氧和溴化氢氯等不同气体混合物的影响,我们发现,在氧的存在下,蚀刻残留物形成良好,这表明蚀刻残留物是由氧和非挥发性卤化硅化合物的反应引起的,湿法清洗和干法蚀刻清洗工艺被用于去除多晶

    2023-4-24
    5100
  • 有机纤维的聚酰亚胺(PI)纤维

    聚酰亚胺纤维是聚酰亚胺材料的一种非常重要的应用形式。聚酰亚胺纤维除了具备聚酰亚胺材料本身所具有的耐高温、耐低温、耐化学腐蚀、耐辐照、良好的介电性能和尺寸稳定性等优异性能外,由于其沿纤维轴方向高度取向,因此聚酰亚胺纤维又具有高强高模的特性。

    2023-4-23
    5900
  • 测sem时的硅片的作用

    检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜。扫描电镜SEM是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。测sem时的硅片的作用检查硅片表面残留的涂层或均匀薄膜,硅片是生产集成电路、分立器件、传感器

    2023-4-22
    4600
  • sem硅片有正反面吗

    有。硅片一般分正面和背面,正面印正银,背面印背银和背铝,烘干烧结后可以使用并测试。光伏用的硅片表面不能有线痕,这种工艺在切割时就定型,用途太阳能发电。而半导体硅片在切割时,硅片两面都有线痕,经抛光研磨后成晶圆,再上光刻胶。很多纳米管、线等都

    2023-4-22
    3900
  • SEM用硅片含有氧元素吗

    为了阐明蚀刻残留物的形成机理,研究了氯氦-氧、溴化氢氦-氧和溴化氢氯等不同气体混合物的影响,我们发现,在氧的存在下,蚀刻残留物形成良好,这表明蚀刻残留物是由氧和非挥发性卤化硅化合物的反应引起的,湿法清洗和干法蚀刻清洗工艺被用于去除多晶

    2023-4-22
    4200
  • 有机纤维的聚酰亚胺(PI)纤维

    聚酰亚胺纤维是聚酰亚胺材料的一种非常重要的应用形式。聚酰亚胺纤维除了具备聚酰亚胺材料本身所具有的耐高温、耐低温、耐化学腐蚀、耐辐照、良好的介电性能和尺寸稳定性等优异性能外,由于其沿纤维轴方向高度取向,因此聚酰亚胺纤维又具有高强高模的特性。

    2023-4-21
    4900
  • 粉体SEM表征,是用铜片还是导电橡胶?

    可以现在乙醇中超声分散,然后用硅片捞取样品,用导电胶粘在样品台上,这样看纤维我觉得比较好另外,如果实在要看固体粉末,不要直接粘在导电胶上,这样不是很好,我觉得还是用铜片好一点,不过尽量不要看固体,高度不均的情况下,看到的图像也是相称度很差对

    2023-4-17
    5500
  • sem硅片有正反面吗

    有。硅片一般分正面和背面,正面印正银,背面印背银和背铝,烘干烧结后可以使用并测试。光伏用的硅片表面不能有线痕,这种工艺在切割时就定型,用途太阳能发电。而半导体硅片在切割时,硅片两面都有线痕,经抛光研磨后成晶圆,再上光刻胶。很多纳米管、线等都

    2023-4-15
    5100